镍锰靶材（NiMn）

产品简介（Introduction）

镍锰靶材（NiMn）由镍（Ni）与锰（Mn）组成，是一种在磁性薄膜、电子结构膜和高稳定性阻挡层应用中广泛使用的功能金属合金靶材。Ni 提供良好的导电性、延展性与化学稳定性，而 Mn 作为关键磁性调控元素，可有效调整薄膜的磁性结构、交换偏置特性与膜层微观组织。

NiMn 广泛用于自旋阀（Spin Valve）、磁记录材料、磁传感器、阻挡层及多层金属结构膜，是磁电子（Spintronics）与先进磁存储器件的重要材料。

产品详情（Detailed Description）

NiMn 靶材采用高纯镍粉与锰粉，通过混料、冷等静压（CIP）成型，并经真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）制成，具有高致密度、良好结构均匀性、低颗粒输出和稳定溅射速率。

典型产品参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 典型成分比例（Composition）：

  • Ni80Mn20（最常用于磁性薄膜）

  • Ni75Mn25

  • Ni70Mn30

  • 更多 Mn 掺杂比例可定制

• 直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm

• 致密度（Density）：≥95–98% TD

• 制造工艺（Process）：CIP + 真空烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可提供 Cu/Ti 背板或铟焊结合（In Bonding）

材料特点：

• 优异的磁性调节功能

• 稳定的成膜速率与低颗粒率

• 良好的耐腐蚀性与抗氧化性

• 可形成高致密、低应力薄膜

• 与金属、陶瓷、玻璃基底兼容

• 适合反应性溅射（Mn/Ni 氧化物、氮化物薄膜）

应用领域（Applications）

NiMn 靶材是磁性薄膜与数据存储技术中的核心材料。

1. 磁性薄膜技术（Magnetic Thin Films）

• 自旋阀结构（Spin Valve）

• 交换偏置层（Exchange-Bias Layer）

• MRAM 结构膜

• 磁敏传感器

• 读写磁头薄膜

NiMn 及其反铁磁特性是现代磁存储结构的重要基础。

2. 半导体与电子薄膜（Semiconductors & Electronics）

• 阻挡层

• 粘附层

• 结构强化膜

• 多层金属复合结构的调节层

3. 保护膜与功能薄膜（Functional & Protective Coatings）

• 耐腐蚀金属膜

• 抗氧化保护膜

• 高温结构膜

4. 科研与材料设计（Research Applications）

适用于：

• 反铁磁薄膜研究

• NiMn 氧化物 / 氮化物结构开发

• 多层磁性结构堆叠设计

• 自旋电子器件材料开发

兼容 DC/RF 磁控溅射、反应性溅射、共溅射。

技术参数（Technical Parameters）

材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 干燥剂防潮

• 防震泡棉

• 出口级硬箱或木箱

• 每片靶材附唯一批号可追踪

结论（Conclusion）

镍锰靶材（NiMn）是磁电子器件、存储技术与功能磁性薄膜中的关键材料，具有优异的磁性调控能力与结构稳定性。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同 Ni/Mn 比例、各种尺寸及背板组合的 NiMn 靶材，是科研与工业领域的可靠薄膜材料供应商。

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