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铝镁蒸发材料通常采用高纯铝与高纯镁为原料,通过真空熔炼或合金化工艺制备,确保合金成分均匀、组织致密,并严格控制氧、碳等杂质含量。
纯度等级:99.9%(3N)–99.99%(4N),满足科研及工业级薄膜沉积需求
合金比例:Al/Mg 比例可按质量比或原子比定制,用于调节薄膜的电阻率、光学反射率与应力状态
成膜特性:铝元素有助于形成连续、致密且均匀的金属薄膜
功能调控:镁元素可改善薄膜的电学与光学性能,并有助于界面能级调节
供货形态:颗粒、块状、片状或定制形态,适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源
通过合理的成分设计与蒸发参数控制,AlMg 蒸发材料可实现高一致性和良好重复性的薄膜沉积效果。
铝镁蒸发材料在多个薄膜沉积与功能层领域中具有典型应用,包括:
显示与光学镀膜:反射层、功能金属薄膜
电子与微电子器件:功能金属层、电极相关薄膜
半导体薄膜沉积:过渡层、界面调控层
表面工程与防护涂层:轻质功能金属薄膜
科研与实验室应用:合金薄膜电学与光学性能研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 合金成分 | Al–Mg(比例可定制) | 决定电学与光学性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜缺陷与可靠性 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 尺寸范围 | 1 – 10 mm(颗粒)或定制 | 影响蒸发速率与均匀性 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流真空系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铝镁蒸发材料(AlMg) | 轻质、电学与光学可调 | 显示与功能薄膜 |
| 纯铝(Al) | 易沉积、导电性好 | 电极与反射膜 |
| 纯镁(Mg) | 光学与能级调节 | 功能薄膜 |
| 铝钛(AlTi) | 附着力更强 | 粘附与过渡层 |
Q1:AlMg 蒸发材料适合哪种沉积方式?
A:适用于热蒸发和电子束蒸发工艺,广泛用于光学与功能金属薄膜制备。
Q2:AlMg 薄膜的主要优势是什么?
A:薄膜轻质、成膜均匀,电学与光学性能可调。
Q3:合金比例可以定制吗?
A:可以,根据目标反射率、电阻率或界面特性定制 Al/Mg 比例。
Q4:与纯铝薄膜相比有何不同?
A:AlMg 在光学调控和界面工程方面更具灵活性。
Q5:是否适合连续或批量蒸发?
A:适合,蒸发过程稳定,工艺重复性高。
Q6:膜层附着力表现如何?
A:对玻璃、硅、氧化物及多种金属基底具有良好附着性能。
Q7:是否可用于多层或复合薄膜结构?
A:可以,常作为功能层或过渡层使用。
Q8:科研应用中常见用途有哪些?
A:合金薄膜光学性能、电学行为及界面效应研究。
所有铝镁蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测,并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装,结合防震缓冲材料与出口级包装方案,确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铝镁蒸发材料(AlMg)通过将铝的成熟成膜特性与镁的功能调控作用相结合,为显示、光学与电子薄膜提供了一种工艺成熟、性能均衡且性价比突出的蒸发材料解决方案。对于需要轻质薄膜、电学或光学可调性的真空蒸发应用,AlMg 是一种值得信赖的工程级材料选择。
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