铋镧靶材（BiLa）

产品简介（Introduction）

铋镧靶材（BiLa）是一种由铋（Bi）与镧（La）组成的二元合金或复合材料靶材，广泛用于光电薄膜、功能材料、氧化物电子学与新型储能材料研究中。相比单一元素靶材，Bi–La 体系在薄膜结构调控、成分设计、晶相稳定性以及高温性能方面拥有更高可调性，尤其适合科研院所、高校实验室与创新型材料开发企业使用。

在磁控溅射薄膜制备中，铋镧靶材具有化学稳定性优良、烧结致密度高、膜层均匀性出色的优势，能够满足对薄膜成分、表面质量和电学性能的严格要求。

产品详情（Detailed Description）

铋镧靶材通常采用高纯金属粉末，经冷等静压（CIP）成型与真空烧结（Vacuum Sintering）或热压烧结（Hot Pressing）制备。材料结构致密且均匀，成分分布稳定，可有效避免薄膜成分偏析。

典型规格：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 尺寸（Diameter）：Ø25 mm – Ø300 mm，可定制 1″ / 2″ / 3″ 等常规尺寸

• 厚度（Thickness）：3 mm – 6 mm

• 致密度（Density）：≥95% 理论密度（TD）

• 成型工艺：CIP + Vacuum Sintering / Hot Pressing

• 背板可选：铜（Cu）、钛（Ti）、铟焊（In-Bonding）

这些制造工艺使得靶材具有：

• 更好的溅射稳定性

• 较低的 arcing 与颗粒（particles）生成率

• 优异的膜层附着力与均匀性

• 更长的使用寿命与高效的材料利用率

应用领域（Applications）

铋镧靶材在新型功能薄膜领域具有广泛应用，包括：

• 光电薄膜（Optoelectronic Films）
  用于调控光透过率、折射率与吸收特性。

• 氧化物电子学（Oxide Electronics）
  如透明导电薄膜、介电层、过渡层。

• 能源材料研究
  可用于开发储能相关薄膜，如钙钛矿型或稀土复合氧化物体系。

• 磁性与多功能薄膜
  用于研究磁响应、电磁耦合等现象。

• 科研实验室材料探索
  适合结构相变、晶相调控、电学/光学性能分析等基础科学研究。

适配 RF / DC 磁控溅射、共溅射、反应溅射（O₂、N₂） 等沉积方式。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有铋镧靶材均经过严格检验，并采用：

• 真空密封包装

• 静电与防震保护

• 出口级泡沫与木箱双重包装

确保靶材在运输过程中保持洁净、无污染和完整性。

结论（Conclusion）

铋镧靶材（BiLa）作为一类功能性强的复合靶材，在光电、能量材料、氧化物电子学和科研探索中展现出高度价值。苏州科跃材料科技有限公司支持多规格定制，并提供稳定可靠的生产工艺，适用于科研和产业化薄膜制备需求。

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