描述
钆铟靶材（GdIn）
产品简介（Introduction）
钆铟靶材（GdIn）由稀土金属钆（Gd）与金属铟（In）组成，是一种兼具磁性调控、电学可调性与优良薄膜附着性能的高功能合金靶材。钆具有强磁性与独特的磁热特性，而铟具备优异延展性、导电性和界面结合能力。两者复合后的 GdIn 薄膜在磁性材料、电光功能膜、传感器以及先进电子器件中表现突出。
该靶材适合用于 DC / RF 磁控溅射、反应性溅射、离子束镀膜（IBS）及 PLD（脉冲激光沉积）等多种薄膜制备工艺。
产品详情（Detailed Description）
GdIn 靶材通常采用真空熔炼、CIP 冷等静压、热压（HP）或 HIP（热等静压）等方式制备，以获得高致密度、成分均匀和低氧含量的靶材结构。精密加工后的表面适用于高功率溅射环境，放电稳定、颗粒少。
● 典型参数
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纯度（Purity）：99.9% – 99.99%
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成分比例（Composition，可定制）：
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Gd 10–70%
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In 30–90%
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支持原子比 / 质量比定制
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尺寸（Size）：Ø25–300 mm 圆形靶；矩形靶可定制
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厚度（Thickness）：2–6 mm
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工艺（Process）：Vacuum Melting / CIP / HP / HIP
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背板（Bonding）：Cu / Ti / In 焊接可选
● 材料特性
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可控磁性（随钆含量变化）
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膜层均匀、结构致密
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良好导电性与界面润湿性
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适用于中低温镀膜工艺
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支持制备 GdIn-O / GdIn-N 反应性薄膜
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对 Si、玻璃、ITO、蓝宝石等基底附着性优良
应用领域（Applications）
1. 磁性功能薄膜（Magnetic Thin Films）
Gd 的强磁性赋予 GdIn 薄膜可调磁响应特征，适用于：
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磁致冷材料研究
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自旋电子学（Spintronics）
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磁传感器（Magnetic Sensors）
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磁光薄膜
2. 光电功能膜（Optoelectronic Films）
GdIn 具有良好界面结合特性，适用于：
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光学保护膜
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导电功能层
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光电探测器结构薄膜
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红外感测薄膜
3. 半导体材料与界面工程（Semiconductor Interfaces）
Gd 与 In 的复合薄膜可用于：
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金属接触层（Contact Layers）
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阻挡层（Barrier Layers）
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多层电子结构堆栈膜
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介电界面调控
4. 传感器材料（Sensors）
适用于：
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环境传感薄膜
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磁敏 / 电敏复合材料
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压力 / 应变敏感膜
技术参数（Technical Parameters）
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 科研与工业级 |
| 致密度 | ≥98–100% TD | 薄膜颗粒少、均匀性高 |
| 成分比 | Gd/In 可定制 | 控制磁性/电阻率 |
| 厚度 | 2–6 mm | 支持薄靶 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 散热好、强度高 |
材料对比（Comparison）
| 材料 | 特点 | 应用方向 |
|---|---|---|
| GdIn | 可调磁性 + 良好界面结合性 | 磁性膜/光电膜/传感器 |
| GdFe | 高磁性 | 磁性器件 |
| In | 延展性强、导电性好 | 透明电子材料 |
| GdGa | 更强磁性 | 自旋材料 |
常见问题（FAQ）
1. GdIn 靶材可用于 RF 溅射吗？
可以，兼容 DC / RF / HiPIMS。
2. 是否支持制作 300mm 靶材？
可以，支持全尺寸定制。
3. GdIn 膜层磁性可以调控吗？
可以，主要通过 Gd 含量控制。
4. 是否可做反应性溅射？
支持制备 GdIn-O / GdIn-N 功能性薄膜。
5. 是否支持背板绑定？
支持铜背板、钛背板和铟焊。
包装（Packaging）
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双层真空密封
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干燥剂防潮保护
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防震泡沫
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出口级木箱/硬盒
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每片附唯一批号与 COA
结论（Conclusion）
钆铟靶材（GdIn）凭借其可调磁性、稳定电学性能与优良薄膜附着性，在磁性薄膜、光电薄膜、传感器及半导体领域具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、成分可定制的 GdIn 靶材，满足科研与工业应用需求。
如需报价：
📩 sales@keyuematerials.com
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