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铈钇靶材（CeY）由稀土元素铈（Ce）与钇（Y）组成，是一种具有优异化学稳定性与光学、电学调控能力的稀土复合材料靶材。Ce–Y 体系因其可调氧化态、良好的热稳定性以及与氧化物体系的高兼容性，被广泛用于透明电子学、光学薄膜、储能材料、电催化薄膜以及先进功能材料研究。
铈和钇在多种氧化物系统中具有协同增强效应，使 CeY 靶材能够在薄膜结构调控、缺陷工程、透光率调节以及电学性能优化中展现独特优势，尤其适用于科研机构及新材料研发企业。
铈钇靶材通过高纯金属/氧化物粉末经冷等静压（CIP）成型、真空烧结（Vacuum Sintering）或热压烧结（Hot Pressing, HP）制备而成。制造过程中严格控制微观结构，使其具有高致密度与均匀成分分布。
典型规格：
纯度（Purity）：99.9%–99.99%
直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm（支持 1″ / 2″ / 3″ 定制）
厚度（Thickness）：3–6 mm
致密度（Density）：≥95% 理论密度（TD）
工艺：CIP + 真空烧结 / 热压烧结
背板（Bonding）：可选 Cu / Ti 背板、铟焊（In-Bonding）
材料优势：
优异的热化学稳定性
溅射过程中成分稳定
低颗粒率（Particles）与低 arcing
膜层附着力强、组成可控
在高温退火中保持良好膜质
铈钇靶材在光学与电子薄膜领域拥有广泛应用，典型方向包括：
适用于透明导电薄膜、氧化物半导体薄膜与功能介电层优化。
用于调节折射率、透光性与抗反射性能，如：
光学滤光片
反射/透射薄膜
显示与光学窗口材料
Ce/Y 掺杂体系常用于：
氧离子导体
固体电解质
电催化薄膜（如 ORR、OER 相关体系）
用于研究氧空位浓度调控、带隙工程及应力调节。
适用于结构调控、缺陷工程、电学性能研究等基础科学实验。
兼容 RF / DC 磁控溅射、共溅射、反应溅射（O₂ / N₂） 等工艺。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 影响薄膜缺陷密度与光学品质 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适用于主流真空设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响沉积速率与靶材寿命 |
| 致密度 | ≥95% TD | 提升膜层均匀性与稳定性 |
| 背板结构 | Cu / Ti / In 焊 | 增强散热、提升结构稳定性 |
| 材料 | 性能特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CeY | 稀土协同效应强、氧空位调控性佳 | 透明电子学、光学薄膜 |
| CeO₂ | 高稳定性、氧化还原可逆性强 | 催化、光学镀膜 |
| Y₂O₃ | 高折射率、高熔点 | 光学窗口、介电层 |
| Ce–La、Ce–Gd 系靶材 | 更强的能带调节能力 | 功能薄膜与科研试验 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CeY 靶材适合 RF 溅射吗？ | 是，RF 溅射对稀土复合材料更稳定。 |
| 是否需要背板？ | 建议使用 Ti/Cu 背板改善散热与机械稳定性。 |
| 会不会易氧化？ | 材料整体稳定，建议真空密封保存以避免表面轻微氧化。 |
| 可否定制成 1″、2″、3″？ | 尺寸完全可定制。 |
| 可否共溅射？ | 可以，用于复合薄膜与梯度薄膜制备。 |
| 适用于哪些基底？ | 玻璃、ITO、Si、Al₂O₃、MgO 等均兼容。 |
| 支持反应溅射吗？ | 可稳定运行于 Ar/O₂、Ar/N₂ 等气氛中。 |
| 膜层是否致密？ | 高致密度靶材可获得均匀、低缺陷的膜层结构。 |
| 可否提供小样？ | 可提供小尺寸样品或试产量。 |
所有铈钇靶材出厂前均：
进行纯度与外观检测
经过真空密封包装
加厚防震泡沫保护
使用出口级纸箱或木箱包装
附带唯一批次编号便于追踪
确保运输过程中的洁净性与结构完整。
铈钇靶材（CeY）是一类兼具稀土光学、电学与结构调控能力的高端靶材，适用于光学薄膜、透明电子学、催化薄膜及科研领域。苏州科跃材料科技有限公司可根据您的需求提供定制化尺寸、纯度与背板结构方案，是科研机构和高科技企业的优质供应伙伴。
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📩 sales@keyuematerials.com
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