铈钆蒸发材料（CeGd）

产品详情（Detailed Description）

铈钆蒸发材料通常采用高纯铈与高纯钆为原料，通过真空熔炼或合金化工艺制备，确保合金成分均匀、组织致密，并严格控制氧、碳等杂质含量。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N），适用于科研及高端薄膜沉积

• 合金比例：Ce/Gd 比例可按质量比或原子比定制，用于调节薄膜的磁学响应、氧化行为与结构特性

• 磁学特性：钆元素赋予薄膜明显的顺磁/磁学响应，适合磁功能薄膜设计

• 化学活性：铈元素有利于形成可控氧化态，常用于反应型蒸发或氧化物前驱薄膜

• 供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源

通过合理的合金设计与工艺参数控制，可获得成分均匀、结构稳定且功能可调的 CeGd 稀土合金薄膜。

应用领域（Applications）

铈钆蒸发材料在多个稀土与功能薄膜领域中具有典型应用，包括：

• 稀土氧化物薄膜：Ce–Gd 复合氧化物前驱层

• 磁性与磁光薄膜：稀土磁性或磁调控层

• 半导体与光电薄膜沉积：界面调控层、功能掺杂层

• 能源与催化相关薄膜：氧化还原活性薄膜研究

• 科研与实验室应用：稀土合金薄膜、磁学与化学行为研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：CeGd 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发工艺，尤其适合稀土及氧化物相关薄膜制备。

Q2：CeGd 薄膜的主要特点是什么？
A：可同时引入稀土磁响应与可控氧化行为，功能调节空间大。

Q3：合金比例可以定制吗？
A：可以，根据磁学强度、氧化特性或研究目标定制 Ce/Gd 比例。

Q4：是否常用于反应型蒸发？
A：是的，常在氧气或混合气氛中形成稀土氧化物薄膜。

Q5：蒸发过程是否稳定？
A：在合理功率与真空条件下，蒸发过程稳定，重复性良好。

Q6：膜层附着力如何？
A：对玻璃、氧化物及多种金属基底具有良好附着性能。

Q7：是否适合多层或掺杂薄膜结构？
A：适合，常作为功能掺杂层或复合薄膜组成部分。

Q8：科研应用中常见用途有哪些？
A：稀土磁学研究、氧化还原行为及界面工程研究。

包装与交付（Packaging）

所有铈钆蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装，结合防震缓冲材料与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。

结论（Conclusion）

铈钆蒸发材料（CeGd）通过将铈的化学活性与钆的磁学特性协同设计，为稀土功能薄膜与科研级材料研究提供了一种成分可调、性能多维且工艺成熟的蒸发材料方案。对于需要引入稀土磁效应或开展氧化物与功能薄膜研究的真空蒸发应用，CeGd 是一种具有明显研究与应用价值的材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com