描述
钴镍靶材（CoNi）
产品简介（Introduction）
钴镍靶材（CoNi）由钴（Co）与镍（Ni）组成，是一种具有优异磁性、耐腐蚀性与良好成膜性能的二元合金靶材。Co 提供高机械强度、磁性能与稳定的金属结合性，而 Ni 具有优良延展性、抗腐蚀能力与电学稳定性。两者结合形成的 CoNi 薄膜在磁性器件、电子结构层、功能涂层以及真空镀膜技术中具有广泛应用。
由于其磁性可调、膜层致密、稳定性优异，CoNi 已成为磁性薄膜、电子器件与工程功能膜的重要靶材之一。
产品详情（Detailed Description）
CoNi 靶材通常通过粉末冶金工艺制备，包括混料、球磨、冷等静压（CIP）、真空烧结或热等静压（HIP），可达到 95–99% TD 的高致密度，有利于减少溅射颗粒、提升薄膜均匀性与工艺稳定性。
典型参数与规格
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纯度（Purity）：99.9% – 99.99%
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常见配比（Composition）：
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Co50Ni50
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Co60Ni40
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Co70Ni30
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接受所有 Co/Ni 配比定制
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尺寸（Diameter）：Ø25 – 300 mm
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厚度（Thickness）：3 – 6 mm，可做薄靶
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致密度（Density）：≥95–99% TD
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工艺（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP
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可选背板（Bonding）：In 焊（Indium Bonding）、Cu 背板、Ti 背板
主要性能优势
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可调磁性（软磁 / 中磁），适用于磁应用
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成膜均匀，稳定性高
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硬度适中，结合力强
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优异耐腐蚀、电学稳定性好
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颗粒率低，适用于高要求薄膜系统
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支持 DC / RF 溅射
应用领域（Applications）
1. 磁性薄膜（Magnetic Thin Films）
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软磁结构层
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多层磁阻结构（GMR/TMR）
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传感器磁性膜
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磁记录技术
CoNi 是磁应用中常用的可调磁性材料。
2. 半导体与电子薄膜（Semiconductor & Electronics）
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电极层
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扩散阻挡层
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接触层
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结构强化层
3. 工程功能涂层（Engineering Films）
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耐腐蚀金属膜
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耐磨结构层
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表面增强膜
4. 光学薄膜（Optical Coatings）
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结构支撑层
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金属反射增强层
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光学耐蚀保护膜
5. 科研与材料开发（R&D）
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合金磁性调控研究
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自旋电子学（Spintronics）
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CoNi-O、CoNi-N 反应性薄膜开发
技术参数（Technical Parameters）
| 参数 | 范围 / 数值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 薄膜缺陷率低，电学稳定 |
| Co/Ni 比例 | 可定制 | 调控磁性与结构性能 |
| 致密度 | ≥95–99% TD | 高致密减少颗粒生成 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响沉积寿命 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提升散热与机械稳定性 |
对比（Comparison）
| 材料 | 特性 | 应用 |
|---|---|---|
| CoNi | 调磁性佳、成膜均匀 | 磁性薄膜、电子器件 |
| Ni | 延展性强、耐腐蚀 | 电极与结构层 |
| Co | 强磁性、耐磨 | 磁性器件、保护膜 |
| CoCr | 高耐蚀性 | 工程保护膜 |
常见问题（FAQ）
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CoNi 是否有磁性？ | 是，可通过比例调节磁性强弱。 |
| 是否支持 RF 溅射？ | 完全支持。 |
| 配比能否定制？ | 可以按磁性或结构要求定制比例。 |
| 是否适用于传感器结构？ | 是，广泛用于磁传感技术。 |
| 是否容易产生颗粒？ | 高致密度 CoNi 靶材颗粒率低。 |
| 是否可用于反应性溅射？ | 可用于氧化物、氮化物反应性沉积。 |
包装（Packaging）
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真空密封
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多层防震保护
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防氧化储存
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出口级木箱包装
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每片附唯一批次号与检验报告
结论（Conclusion）
钴镍靶材（CoNi）凭借可调磁性、良好成膜性、耐腐蚀性与结构稳定性，在磁性薄膜、电子器件、光学膜层与工程防护应用中表现出色。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯高致密 CoNi 靶材，并支持定制成分与背板焊接。
如需获取报价，请联系：
📩 sales@keyuematerials.com
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