钪铝靶材(ScAl)

钪铝靶材(ScAl)

产品简介(Introduction)

钪铝靶材(ScAl)由钪(Sc)与铝(Al)组成,是一种轻质、高强度、具有优异电学与光学调控能力的功能性合金靶材。ScAl 薄膜能够显著改善晶体质量、提高载流子迁移率,并在光学与结构膜应用中展现出卓越性能,因此在半导体、光电显示、射频器件与先进材料研究中广受关注。

Sc 的掺入使得薄膜具备更佳的结晶性与机械稳定性,而 Al 则赋予轻量化与优异的导热性。两者结合,使 ScAl 靶材成为高端薄膜制备的核心材料之一。


产品详情(Detailed Description)

ScAl 靶材通常采用高纯钪粉与铝粉,通过冷等静压(CIP)压制,再经真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)制备而成。该靶材具有高致密度、稳定溅射行为、低颗粒率和良好的膜厚均匀性。

典型产品参数:

  • 纯度(Purity):99.9%–99.99%

  • 典型配比(Composition)

    • Sc10Al90

    • Sc20Al80

    • Sc30Al70
      (可根据薄膜需求定制 Sc/Al 比例)

  • 直径(Diameter):Ø25–Ø300 mm

  • 厚度(Thickness):3–6 mm

  • 致密度(Density):≥95–98% TD

  • 制造工艺(Process):CIP + 真空烧结 / HIP

  • 背板(Bonding):可选 Ti / Cu 背板或铟焊(In Bonding)

材料特点:

  • Sc 提升薄膜晶体结构与迁移率

  • Al 提供高导热性与轻量化

  • 成膜均匀、表面致密、缺陷率低

  • 附着性强,兼容多种基底(Si、玻璃、ITO 等)

  • 温度窗口宽,可用于低温和高温沉积

  • 反应性溅射性能优良(ScAlOx、ScAlN 薄膜)


应用领域(Applications)

由于 ScAl 独特的晶体和电子结构调控能力,使其成为高端电子、光学和显示领域的重要材料。

1. 射频器件(RF Devices)

Sc 掺杂可显著提高声表面波(SAW)与体声波(BAW)器件的耦合系数。

  • 滤波器电极层

  • 声学器件结构膜

2. 半导体薄膜(Semiconductors)

  • 高迁移率沟道薄膜

  • 氮化物系外延缓冲层

  • 高温电极材料

3. 显示技术(Displays)

  • TFT/柔性显示的薄膜结构

  • 光学调控层

  • 多层复合金属过渡层

4. 光学镀膜(Optical Coatings)

  • 反射膜

  • 调制层

  • 光学结构膜

5. 功能薄膜与科研用途(Research Use)

  • 新型金属间化合物薄膜研究

  • ScAl 氧化物 / 氮化物功能薄膜

  • 电子结构调控膜层


技术参数(Technical Parameters)

参数 数值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.99% 影响薄膜电学与光学性能
成分比例 Sc/Al 可定制 调节载流子迁移率与结构稳定性
致密度 ≥95–98%TD 决定颗粒率与成膜品质
厚度 3–6 mm 影响溅射效率与寿命
直径 Ø25–300 mm 适配 PVD 设备
背板选项 Ti / Cu / In 焊 提高散热与薄膜均匀性

相关材料对比(Comparison)

材料 特点 常见应用
ScAl 高迁移率、高晶体质量 射频器件、TFT、光学膜
Sc2O3 优异介电强度 光学、绝缘膜
Al(铝) 轻、导热高 通用金属膜
AlN 高声速、高硬度 声学器件结构层

常见问题(FAQ)

问题 答案
ScAl 是否适合高温沉积? 是,ScAl 在高温下仍保持稳定结构。
可否定制成分? 可以提供 Sc 5%–50% 不同比例定制。
是否适合用于声学器件? 是,Sc 掺杂可提升声学性能,是核心材料。
是否兼容反应性溅射? 完全兼容,可用于制备 ScAlOx、ScAlN 功能膜。
成膜颗粒率如何? 采用 HIP 或致密烧结工艺,颗粒率极低。

包装(Packaging)

  • 真空密封防氧化

  • 干燥剂防潮

  • 多层防震包装

  • 出口级木箱/硬箱

  • 每片靶材附唯一批号(可追踪)


结论(Conclusion)

钪铝靶材(ScAl)是射频器件、显示技术与先进薄膜结构中不可或缺的重要材料。其优异的晶体质量提升能力、机械稳定性和光电性能,使其在科研与工业应用中广泛使用。苏州科跃材料科技有限公司可定制不同成分、规格与背板结构,满足高端薄膜沉积需求。

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