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钪铝靶材(ScAl)由钪(Sc)与铝(Al)组成,是一种轻质、高强度、具有优异电学与光学调控能力的功能性合金靶材。ScAl 薄膜能够显著改善晶体质量、提高载流子迁移率,并在光学与结构膜应用中展现出卓越性能,因此在半导体、光电显示、射频器件与先进材料研究中广受关注。
Sc 的掺入使得薄膜具备更佳的结晶性与机械稳定性,而 Al 则赋予轻量化与优异的导热性。两者结合,使 ScAl 靶材成为高端薄膜制备的核心材料之一。
ScAl 靶材通常采用高纯钪粉与铝粉,通过冷等静压(CIP)压制,再经真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)制备而成。该靶材具有高致密度、稳定溅射行为、低颗粒率和良好的膜厚均匀性。
纯度(Purity):99.9%–99.99%
典型配比(Composition):
Sc10Al90
Sc20Al80
Sc30Al70
(可根据薄膜需求定制 Sc/Al 比例)
直径(Diameter):Ø25–Ø300 mm
厚度(Thickness):3–6 mm
致密度(Density):≥95–98% TD
制造工艺(Process):CIP + 真空烧结 / HIP
背板(Bonding):可选 Ti / Cu 背板或铟焊(In Bonding)
Sc 提升薄膜晶体结构与迁移率
Al 提供高导热性与轻量化
成膜均匀、表面致密、缺陷率低
附着性强,兼容多种基底(Si、玻璃、ITO 等)
温度窗口宽,可用于低温和高温沉积
反应性溅射性能优良(ScAlOx、ScAlN 薄膜)
由于 ScAl 独特的晶体和电子结构调控能力,使其成为高端电子、光学和显示领域的重要材料。
Sc 掺杂可显著提高声表面波(SAW)与体声波(BAW)器件的耦合系数。
滤波器电极层
声学器件结构膜
高迁移率沟道薄膜
氮化物系外延缓冲层
高温电极材料
TFT/柔性显示的薄膜结构
光学调控层
多层复合金属过渡层
反射膜
调制层
光学结构膜
新型金属间化合物薄膜研究
ScAl 氧化物 / 氮化物功能薄膜
电子结构调控膜层
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 影响薄膜电学与光学性能 |
| 成分比例 | Sc/Al 可定制 | 调节载流子迁移率与结构稳定性 |
| 致密度 | ≥95–98%TD | 决定颗粒率与成膜品质 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射效率与寿命 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配 PVD 设备 |
| 背板选项 | Ti / Cu / In 焊 | 提高散热与薄膜均匀性 |
| 材料 | 特点 | 常见应用 |
|---|---|---|
| ScAl | 高迁移率、高晶体质量 | 射频器件、TFT、光学膜 |
| Sc2O3 | 优异介电强度 | 光学、绝缘膜 |
| Al(铝) | 轻、导热高 | 通用金属膜 |
| AlN | 高声速、高硬度 | 声学器件结构层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| ScAl 是否适合高温沉积? | 是,ScAl 在高温下仍保持稳定结构。 |
| 可否定制成分? | 可以提供 Sc 5%–50% 不同比例定制。 |
| 是否适合用于声学器件? | 是,Sc 掺杂可提升声学性能,是核心材料。 |
| 是否兼容反应性溅射? | 完全兼容,可用于制备 ScAlOx、ScAlN 功能膜。 |
| 成膜颗粒率如何? | 采用 HIP 或致密烧结工艺,颗粒率极低。 |
真空密封防氧化
干燥剂防潮
多层防震包装
出口级木箱/硬箱
每片靶材附唯一批号(可追踪)
钪铝靶材(ScAl)是射频器件、显示技术与先进薄膜结构中不可或缺的重要材料。其优异的晶体质量提升能力、机械稳定性和光电性能,使其在科研与工业应用中广泛使用。苏州科跃材料科技有限公司可定制不同成分、规格与背板结构,满足高端薄膜沉积需求。
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