描述
钛锆靶材(TiZr)
产品简介(Introduction)
钛锆靶材(TiZr)是由钛(Ti)与锆(Zr)组成的高稳定性金属合金溅射靶材,具有优异的耐腐蚀性、良好的力学性能、高温结构稳定性,以及在薄膜沉积中表现出的高附着力与低应力特性。Ti 与 Zr 原子半径接近、化学行为相似,因此 TiZr 合金具有良好的固溶特性,适用于制备均匀、致密、低缺陷的功能薄膜。
TiZr 被广泛应用于半导体、光学镀膜、核材料研究、传感器、装饰涂层以及高温结构薄膜等先进制造领域。
产品详情(Detailed Description)
材料特性
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高纯度(99.5%–99.99%),薄膜缺陷少
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高致密度(≥97%),溅射过程颗粒率低
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均匀的 Ti-Zr 固溶体结构
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极佳耐腐蚀性与氧化稳定性
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适用于高温与真空环境
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成膜应力低、附着力出色
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支持 DC / RF / 磁控溅射
常见成分比例
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Ti90Zr10
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Ti80Zr20
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Ti70Zr30
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或根据客户电学/薄膜结构需求定制 Ti/Zr 比例
可供规格
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直径:25–300 mm
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厚度:3–6 mm(支持薄靶)
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形状:圆靶、矩形靶、弧形靶
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纯度:3N–4N
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背板选项:铜 Cu、钛 Ti、铟焊 In-bonding
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表面粗糙度:Ra < 0.8 μm(可提供精抛版)
应用领域(Applications)
1. 半导体与微电子
TiZr 因为电学稳定与附着性强,用于:
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粘附层(Adhesion Layer)
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扩散阻挡层
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介电层与金属层之间的界面结构
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多层金属堆栈中的过渡层
2. 光学镀膜(Optical Coatings)
TiZr 可形成高致密、光学性能稳定的薄膜:
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反射膜
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抗反射膜(AR)
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中红外薄膜
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光学结构保护层
3. 耐腐蚀与耐高温薄膜
Ti 与 Zr 都具有高化学稳定性,适用于:
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耐腐蚀涂层
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抗氧化高温膜
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真空与核工业材料界面层
4. 科研实验薄膜
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金属固溶体研究
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多层结构膜沉积
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应力调控与薄膜稳定性研究
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功能性合金薄膜开发
技术参数(Technical Parameters)
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5%–99.99% | 高纯减少薄膜缺陷 |
| 成分 | Ti/Zr 可定制 | 决定薄膜电阻与结构 |
| 致密度 | ≥97% | 溅射更均匀、颗粒少 |
| 尺寸 | 25–300 mm | 兼容主流设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 支持长寿命靶材 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提高散热与稳定性 |
相关材料对比(Comparison with Related Materials)
| 材料 | 优势 | 应用 |
|---|---|---|
| TiZr | 高附着性 + 高耐腐蚀 | 粘附层、光学保护层 |
| Ti | 良好附着性 | 电子薄膜、粘附层 |
| Zr | 高温稳定、耐腐蚀 | 结构膜、光学膜 |
| HfZr | 高介电常数 | 半导体高 k 薄膜 |
常见问题(FAQ)
1. TiZr 是否适用于 RF 和 DC 溅射?
是的,适用于所有主流 PVD 工艺。
2. TiZr 与纯 Ti 相比有什么优势?
TiZr 薄膜更稳定、耐腐蚀性更强,长期可靠性更佳。
3. 能否制备大尺寸靶材?
可提供 4″、6″、8″、12″ 等主流尺寸。
4. 配比可以定制吗?
完全支持,根据电阻率、附着需求调节 Ti/Zr 比例。
5. 是否提供检测报告?
可提供 ICP、密度、粗糙度等数据。
包装与交付(Packaging)
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双层真空密封
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内部防震泡棉
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外箱为出口级包装
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全程附批次标签可追踪
结论(Conclusion)
钛锆靶材(TiZr)兼具轻质金属与难熔金属的性能优势,在半导体、光学、耐腐蚀涂层、结构薄膜及科研领域具有广泛应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、成分可定制的 TiZr 靶材,满足科研及量产需求。
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