硅锌靶材(SiZn)

硅锌靶材(SiZn)

产品简介(Introduction)

硅锌靶材(SiZn)是一种兼具半导体特性、良好导电性与膜层结构稳定性的复合靶材,在薄膜电子、透明导电膜、光电器件和功能涂层等领域具有重要地位。
通过优化硅(Si)与锌(Zn)的比例,SiZn 靶材能够在溅射过程中提供良好的成膜均匀性、更稳定的光电性能,同时有效控制膜层缺陷密度。

在高端显示、光电器件和新型透明功能薄膜的研究与产业化中,SiZn 是一类兼具性能与成本优势的重要材料。


产品详情(Detailed Description)

硅锌靶材采用高纯度原料,经真空烧结、CIP 冷等静压、HIP 热等静压或热压烧结等先进工艺制备,能够达到高致密度和优良微观结构。

可提供的典型参数包括:

  • 纯度:99.9%–99.99%

  • 尺寸:Φ25–Φ300 mm(支持定制形状)

  • 厚度:3–6 mm(可定制)

  • 致密度:>97%

  • 背板键合:铜背板(Cu)、钛背板(Ti)、铟焊(In Bonding)

工艺性能优势:

  • 膜层均匀性高,致密度好

  • 提升薄膜的导电性、化学稳定性与透明度

  • 能有效抑制金属 Zn 的过度迁移,使薄膜结构更稳定

  • 在高功率溅射条件下具有优异热稳定性

  • 支持根据客户设备与工艺进行配比调整


应用领域(Applications)

硅锌靶材广泛用于先进薄膜技术开发与批量生产,包括:

  • 透明导电薄膜(TCF):触控屏、显示模组、光伏

  • 光电器件(Optoelectronics):柔性光电、反射膜、增透膜

  • 薄膜晶体管(TFT)电极层与功能层

  • 半导体功能薄膜:阻挡层、缓冲层、电极过渡层

  • 玻璃镀膜:建筑玻璃、车载玻璃光学功能膜

  • 科研实验与材料工程开发


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9%–99.99% 影响薄膜缺陷、光学与电学性能
直径 25–300 mm 兼容多数溅射系统
厚度 3–6 mm 影响溅射速率和散热表现
致密度 >97% 提升膜层均匀性与致密度
背板结合 Cu / Ti / In 焊 强化散热与结构稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要特点 典型用途
SiZn 透明度与导电性平衡良好 TCF、光电薄膜
ZnO 高透光,但易受应力影响 光学镀膜
SiO₂ 绝缘性强,结构稳定 介质层薄膜

常见问题(FAQ)

1. SiZn 靶材适用哪些溅射方式?
支持 RF 与 DC 磁控溅射。

2. SiZn 膜层是否具备透明导电特性?
具备,可用于触控、显示和光伏结构。

3. 配比可否定制?
可按客户要求调整 Si/Zn 比例。

4. 是否兼容常见基底?
兼容玻璃、Si、ITO、金属等多种基底。

5. SiZn 的成膜稳定性如何?
复合结构可降低金属迁移,提高膜层稳定性。

6. 是否适用于高功率溅射?
在铜或钛背板支持下可稳定运行。

7. 透明导电膜的电阻可控吗?
可通过改变溅射条件与氧分压进行调控。

8. 是否能用于柔性电子?
可,具有优良附着力与低应力特性。

9. 是否支持批量生产?
苏州科跃材料支持科研小批量与工业大批量供货。

10. 是否提供检测与追溯?
全部靶材附带纯度与外观检测、唯一编号追溯。


包装与交付(Packaging)

  • 真空密封

  • 防震泡棉

  • 出口级木箱或高强度纸箱

  • 全流程追溯编码


结论(Conclusion)

硅锌靶材(SiZn)综合了优良透明性、导电性与膜层稳定性,是触控显示、光电器件与先进薄膜技术中的高性能材料选择。其高可控性与可定制特征,使其在科学研究与工业生产中应用广泛。

如需报价与技术支持,请联系:
sales@keyuematerials.com