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硅锌靶材(SiZn)是一种兼具半导体特性、良好导电性与膜层结构稳定性的复合靶材,在薄膜电子、透明导电膜、光电器件和功能涂层等领域具有重要地位。
通过优化硅(Si)与锌(Zn)的比例,SiZn 靶材能够在溅射过程中提供良好的成膜均匀性、更稳定的光电性能,同时有效控制膜层缺陷密度。
在高端显示、光电器件和新型透明功能薄膜的研究与产业化中,SiZn 是一类兼具性能与成本优势的重要材料。
硅锌靶材采用高纯度原料,经真空烧结、CIP 冷等静压、HIP 热等静压或热压烧结等先进工艺制备,能够达到高致密度和优良微观结构。
可提供的典型参数包括:
纯度:99.9%–99.99%
尺寸:Φ25–Φ300 mm(支持定制形状)
厚度:3–6 mm(可定制)
致密度:>97%
背板键合:铜背板(Cu)、钛背板(Ti)、铟焊(In Bonding)
工艺性能优势:
膜层均匀性高,致密度好
提升薄膜的导电性、化学稳定性与透明度
能有效抑制金属 Zn 的过度迁移,使薄膜结构更稳定
在高功率溅射条件下具有优异热稳定性
支持根据客户设备与工艺进行配比调整
硅锌靶材广泛用于先进薄膜技术开发与批量生产,包括:
透明导电薄膜(TCF):触控屏、显示模组、光伏
光电器件(Optoelectronics):柔性光电、反射膜、增透膜
薄膜晶体管(TFT)电极层与功能层
半导体功能薄膜:阻挡层、缓冲层、电极过渡层
玻璃镀膜:建筑玻璃、车载玻璃光学功能膜
科研实验与材料工程开发
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 影响薄膜缺陷、光学与电学性能 |
| 直径 | 25–300 mm | 兼容多数溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率和散热表现 |
| 致密度 | >97% | 提升膜层均匀性与致密度 |
| 背板结合 | Cu / Ti / In 焊 | 强化散热与结构稳定性 |
| 材料 | 主要特点 | 典型用途 |
|---|---|---|
| SiZn | 透明度与导电性平衡良好 | TCF、光电薄膜 |
| ZnO | 高透光,但易受应力影响 | 光学镀膜 |
| SiO₂ | 绝缘性强,结构稳定 | 介质层薄膜 |
1. SiZn 靶材适用哪些溅射方式?
支持 RF 与 DC 磁控溅射。
2. SiZn 膜层是否具备透明导电特性?
具备,可用于触控、显示和光伏结构。
3. 配比可否定制?
可按客户要求调整 Si/Zn 比例。
4. 是否兼容常见基底?
兼容玻璃、Si、ITO、金属等多种基底。
5. SiZn 的成膜稳定性如何?
复合结构可降低金属迁移,提高膜层稳定性。
6. 是否适用于高功率溅射?
在铜或钛背板支持下可稳定运行。
7. 透明导电膜的电阻可控吗?
可通过改变溅射条件与氧分压进行调控。
8. 是否能用于柔性电子?
可,具有优良附着力与低应力特性。
9. 是否支持批量生产?
苏州科跃材料支持科研小批量与工业大批量供货。
10. 是否提供检测与追溯?
全部靶材附带纯度与外观检测、唯一编号追溯。
真空密封
防震泡棉
出口级木箱或高强度纸箱
全流程追溯编码
硅锌靶材(SiZn)综合了优良透明性、导电性与膜层稳定性,是触控显示、光电器件与先进薄膜技术中的高性能材料选择。其高可控性与可定制特征,使其在科学研究与工业生产中应用广泛。
如需报价与技术支持,请联系:
sales@keyuematerials.com
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