硅铬靶材（SiCr）

产品简介（Introduction）

硅铬靶材（SiCr）由硅（Si）与铬（Cr）组成，是一种兼具高硬度、优良耐腐蚀性以及稳定电学特性的功能性合金溅射靶材。Si 提供高电阻率与良好薄膜致密性，Cr 则带来高硬度、优异附着力和抗氧化特性，两者结合使 SiCr 成为硬质薄膜、抗腐蚀涂层、磁性薄膜以及光电结构膜的重要材料。

在薄膜沉积过程中，SiCr 可形成致密、均匀、附着力强且可调电阻率的薄膜，适合应用于半导体、光学镀膜、耐磨层、数据存储、微电子器件与新能源行业。

产品详情（Detailed Description）

材料优势

• 高纯度（99.9%–99.99%）：降低杂质引起的薄膜缺陷

• 高致密度（≥97%）：溅射平稳，颗粒率低

• 优异耐腐蚀性与抗氧化能力

• 电阻率可调，可用于导电或阻挡层结构

• 高硬度薄膜可显著提升耐磨寿命

• 兼容 DC / RF / 磁控溅射工艺

典型成分可定制：

• Si80Cr20

• Si70Cr30

• Si60Cr40

• 或根据客户需求开发不同配比

可提供规格

• 直径：25–300 mm

• 厚度：3–6 mm

• 纯度：3N–4N

• 形状：圆靶、矩形靶、多段式靶

• 背板结合：铜背板（Cu）、钛背板（Ti）、铟焊（In Bonding）

• 表面粗糙度：Ra < 0.8 μm，可提供镜面抛光

应用领域（Applications）

1. 硬质与耐磨薄膜（Hard & Wear-resistant Coatings）

SiCr 薄膜硬度高、摩擦系数低，可用于：

• 工具涂层

• 耐磨保护层

• MEMS 结构部件

• 高寿命机械薄膜结构

2. 半导体与微电子器件

• 粘附层 / 阻挡层

• 介金属（IMD）结构

• 功能电阻膜

• 高频器件保护层

SiCr 的可调电阻率使其在现代逻辑与存储器工艺中具备优势。

3. 光学镀膜（Optical Films）

• 中性密度滤光膜

• 反射调控膜

• 红外吸收层

• 光学结构保护膜

Cr 提供稳固机械特性，Si 提供光学与电阻调控能力。

4. 数据存储与磁性薄膜

Cr 常用作磁记录结构的界面层，Si 的加入有助于控制薄膜晶粒尺寸与均匀性，可用于：

• 磁存储

• 传感器

• MRAM 相关复合膜层

5. 新能源/科研用途

• 功能薄膜材料研究

• 表面工程与结构调控

• 多层纳米复合薄膜开发

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. SiCr 靶材能用于大功率溅射吗？
可以，高致密度结构可支持高功率磁控溅射。

2. SiCr 薄膜电阻率能调节吗？
能，通过调整 Si/Cr 比例即可。

3. 是否支持大尺寸靶材？
可提供 4″、6″、8″、12″ 等全尺寸。

4. SiCr 会氧化吗？
成膜过程中稳定性高，靶材已采用真空密封避免氧化。

5. 是否可提供检测报告？
可提供 ICP、XRF、表面粗糙度、密度等检测。

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封

• 内层防静电袋 + 防震泡棉

• 出口级纸箱/木箱保护

• 附唯一批次追踪标签

结论（Conclusion）

硅铬靶材（SiCr）结合硅与铬的优势，具备高硬度、优异耐腐蚀性、可调光学与电学性能，是半导体、光学镀膜、耐磨结构薄膜和磁性薄膜制造中非常重要的材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、定制成分的 SiCr 溅射靶材，适用于科研与量产。