氧化钛蒸发材料（TiO₂）

产品详情（Detailed Description）

氧化钛蒸发材料选用高纯 TiO₂ 原料，经精确成形与高温烧结制备，确保材料致密、化学计量稳定，并适用于高真空与高能束流沉积环境。

• 化学组成：TiO₂（常见晶型：金红石 / 锐钛矿）

• 纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）

• 材料形态：块状、颗粒状、定制尺寸

• 制造工艺：高纯粉体 → 成形 → 高温烧结

• 表面状态：致密、低吸附，适合高真空蒸发

高质量 TiO₂ 蒸发材料可有效：

• 提升薄膜致密度与折射率一致性；

• 改善膜层附着力与光学稳定性；

• 降低蒸发过程中的成分与相态波动；

• 延长蒸发源与设备使用寿命。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：高折射率层、增透膜、反射膜

• 半导体与电子器件：介电层、缓冲层、界面工程

• 光电子与显示技术：功能光学与保护薄膜

• 能源与环境材料：光催化与相关功能薄膜

• 科研实验：薄膜结构、相变与光学性能研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：TiO₂ 蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：推荐电子束蒸发，也可在高温条件下进行热蒸发。

Q2：TiO₂ 薄膜的光学性能如何？
A：折射率高、吸收低，适合多层光学膜设计。

Q3：TiO₂ 薄膜是否耐高温？
A：是的，具有良好的热稳定性与化学惰性。

Q4：TiO₂ 是否容易产生氧亏缺？
A：在低氧条件下可能出现，建议优化氧分压与沉积参数。

Q5：颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗？
A：会，均匀颗粒有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。

Q6：TiO₂ 与 Ta₂O₅ 相比如何选择？
A：TiO₂ 折射率更高，Ta₂O₅ 吸收更低，取决于膜系设计。

Q7：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是光学薄膜研究的经典材料。

Q8：材料如何储存？
A：建议真空密封保存，避免吸湿与污染。

Q9：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发设备与工艺需求定制。

Q10：可否提供不同晶型 TiO₂？
A：可提供金红石或锐钛矿型 TiO₂ 蒸发材料。

包装与交付（Packaging）

所有氧化钛蒸发材料（TiO₂）在出厂前均经过严格质量检测，并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装，确保运输与储存过程中材料洁净度与性能稳定。

结论（Conclusion）

氧化钛蒸发材料（TiO₂）凭借其高折射率、优异的化学稳定性与成熟的工艺适配性，在光学镀膜、半导体与功能薄膜领域中具有长期可靠的应用价值。对于追求高一致性、高性能与高可靠性的薄膜沉积需求，TiO₂ 是一种成熟、稳健且应用广泛的氧化物蒸发材料选择。

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