氟化钙蒸发材料（CaF）

产品详情（Detailed Description）

氟化钙蒸发材料采用高纯钙源，经受控氟化反应与真空合成工艺制备形成高致密度 Ca–F 化合物相（CaF₂）。在原料提纯、晶相控制、破碎筛分、致密化成型及最终封装的全过程中，严格控制氧、水分及金属杂质含量，确保蒸发过程中成分稳定、蒸发速率平稳、膜层光学性能一致性高。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Ca–F（氟化钙，CaF₂）

• 光学透过范围：约 130 nm – 9 μm（UV–IR）

• 折射率特性：低折射率，色散小

• 成膜优势：蒸发行为稳定、膜层致密、光学损耗低

• 供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过合理控制蒸发速率与基底温度，可制备低散射、低吸收、应力可控且长期稳定的 CaF 薄膜。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：低折射率层、增透膜（AR Coating）

• 紫外与深紫外光学系统：DUV 光学器件镀膜

• 红外光学：IR 光学窗口与功能膜层

• 激光与精密光学：高稳定性光学薄膜

• 多层光学膜系设计：与 MgF₂、AlF₃、LiF、YF₃ 等材料组合

• 科研与实验室应用：光学薄膜与材料物性研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：CaF 适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，两种方式均具有成熟工艺窗口。

Q2：CaF 的核心优势是什么？
A：极宽的光学透过范围、低吸收与高化学稳定性。

Q3：是否适合高功率激光应用？
A：是的，CaF₂ 薄膜具有良好的热稳定性与激光损伤阈值。

Q4：是否适合多层光学膜结构？
A：非常适合，常作为基础低折射率层使用。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、蓝宝石、Si 等基底上表现稳定。

Q6：CaF 是否容易吸湿？
A：吸湿性较低，但仍建议真空密封或干燥条件保存。

Q7：蒸发过程是否容易飞溅？
A：在合理功率与速率控制下，蒸发过程平稳、飞溅风险低。

Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：UV/IR 光学薄膜、低损耗膜系与宽光谱光学系统。

包装与交付（Packaging）

所有氟化钙蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的高纯度、晶相稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化钙蒸发材料（CaF）凭借其超宽光谱透过能力、稳定的化学结构以及成熟可靠的蒸发行为，在光学镀膜与精密光学领域中占据不可替代的位置。对于涉及紫外、可见光及红外系统的真空蒸发薄膜制备，CaF 是一类工程成熟度极高、长期可靠的标准型蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com