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氟化钆（GdFₓ，常见为 GdF₃）是一种重要的稀土氟化物材料，兼具良好的光学透明性、优异的化学稳定性以及独特的磁学与光谱特性。由于钆元素具有较高的磁矩和特殊的能级结构，GdF 薄膜在光学镀膜、磁光材料、功能介质层及先进科研领域中具有重要应用价值。
作为磁控溅射靶材，氟化钆能够稳定沉积成分均匀、低吸收、低应力的功能薄膜，适用于光学器件、磁光薄膜、激光系统及稀土功能材料研究。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯氟化钆原料，通过冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）、真空烧结及精密加工工艺制备 GdF 靶材，确保靶材具备良好的致密度、机械稳定性和一致的溅射性能。
化学组成：GdF₃
纯度等级：99.9% / 99.99%（3N–4N）
靶材尺寸：Ø25–300 mm
厚度范围：3–10 mm
致密度：≥ 90–95%（氟化物材料典型水平）
制造工艺：CIP / HP / HIP / 真空烧结
背板选择：Cu / Ti 背板（支持铟焊或扩散焊）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段拼接靶
稀土氟化物，化学稳定性优异
光学损耗低，适合光学与激光薄膜
兼具磁学特性，适合磁光材料研究
高致密度结构，溅射过程稳定
膜层均匀、应力低、重复性好
GdF 薄膜可用于：
介质光学薄膜
多层干涉膜
精密光学元件镀膜
依托钆元素的磁学特性，GdF 适用于：
磁光薄膜
磁响应功能层
特殊光磁耦合材料研究
激光窗口薄膜
激光系统保护层
稀土相关光子功能膜
绝缘层
介电层
光电器件界面层
稀土光学与磁学材料研究
新型功能薄膜探索
高端科研镀膜实验
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 决定薄膜光学与磁学性能 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研与工业溅射系统 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响靶材寿命与功率匹配 |
| 致密度 | ≥ 90–95% | 提高溅射稳定性，降低颗粒 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止靶材破裂 |
| 制备工艺 | CIP / HP / HIP | 提升材料均匀性与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| GdF₃ | 稀土特性、兼具磁学功能 | 光学/磁光薄膜 |
| YbF₃ | 低声子能、低吸收 | 激光与光子器件 |
| YF₃ | 稳定性高 | 光学与红外薄膜 |
| MgF₂ | 极低折射率 | 抗反射膜 |
| ZrF₄ | 高透明性 | UV / IR 光学薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| GdF 靶材适合哪种溅射方式？ | RF 溅射更常用，DC 可在合适条件下使用。 |
| 氟化钆是否容易吸潮？ | 稍有吸湿性，建议真空密封保存。 |
| GdF 薄膜是否具有磁学特性？ | 是，适用于磁光与功能磁薄膜研究。 |
| 是否支持大尺寸靶材？ | 支持 Ø300 mm 及非标定制。 |
| 靶材是否脆？ | 属于氟化物陶瓷材料，HIP 工艺可显著提升稳定性。 |
| 是否支持科研小批量？ | 支持，一片起订。 |
真空密封防潮包装
内部多层防震缓冲
外层出口级硬箱
附 ICP 杂质分析、致密度与尺寸检测报告
确保靶材在运输与储存过程中保持洁净、稳定与可追溯。
氟化钆靶材（GdF）凭借其优异的光学性能、稀土磁学特性及良好的化学稳定性，在光学镀膜、磁光材料、激光系统及高端科研领域中具有重要应用价值。苏州科跃材料可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 GdF 溅射靶材，满足科研与工业应用的多样化需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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