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氧化铜蒸发材料采用高纯铜源经受控氧化与致密化处理制备,确保材料相组成稳定、杂质含量低,适用于电子束蒸发与高真空热蒸发环境。
化学组成:CuO
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸
制造工艺:受控氧化 → 成形 → 高温烧结
蒸发特性:升华行为稳定,适合高真空沉积
高质量 CuO 蒸发材料可有效:
保证 Cu²⁺ 价态稳定,引入可控的 p 型导电特性;
提升薄膜致密度与电学一致性;
降低蒸发过程中的成分偏析与颗粒飞溅;
满足功能氧化物薄膜对可靠性的要求。
半导体薄膜:p 型氧化物半导体层
光电器件:光吸收层、功能电极层
气体传感器:气敏功能薄膜
能源材料:光催化、电化学相关研究
科研实验:过渡金属氧化物与载流子行为研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | CuO | 决定电学与光学特性 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低杂质对薄膜性能影响 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 带隙 | ~1.2–1.9 eV | 适合光电与半导体应用 |
| 适用工艺 | 电子束蒸发 / 热蒸发 | 功能氧化物常用 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止吸湿与污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氧化铜(CuO) | p 型半导体、窄带隙 | 传感与光电薄膜 |
| 氧化亚铜(Cu₂O) | 更低带隙 | 光伏与光吸收层 |
| 氧化锌(ZnO) | n 型半导体 | 透明导电与传感 |
| 氧化镍(NiO) | p 型稳定 | 空穴传输层 |
Q1:CuO 适合哪种蒸发方式?
A:适用于电子束蒸发与高真空热蒸发。
Q2:CuO 与 Cu₂O 有何区别?
A:主要区别在于铜的价态与带隙大小,直接影响导电与光学特性。
Q3:CuO 薄膜是 p 型吗?
A:是的,CuO 通常表现为 p 型半导体特性。
Q4:沉积过程中需要控制氧分压吗?
A:建议控制氧分压,以稳定薄膜的化学计量与电学性能。
Q5:是否适合气敏传感器应用?
A:非常适合,是常用的气敏功能材料之一。
Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀颗粒有助于获得稳定蒸发速率。
Q7:是否适合科研级实验?
A:是的,是过渡金属氧化物研究中的常用材料。
Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封、干燥保存,避免吸湿。
Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发源与工艺需求定制。
Q10:是否可提供其他铜基氧化物?
A:可提供 Cu₂O 等相关蒸发材料。
所有氧化铜蒸发材料(CuO)在出厂前均经过严格质量检测并建立批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保运输与储存过程中材料纯度、相组成与蒸发性能稳定。
氧化铜蒸发材料(CuO)凭借其稳定的 p 型半导体特性、合适的带隙结构以及良好的工艺适配性,在半导体薄膜、传感器与光电功能材料领域中具有广泛应用价值。对于需要可控电学行为与可靠沉积表现的氧化物薄膜应用,CuO 是一种成熟、可靠且科研与工程潜力兼具的蒸发材料选择。
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