氧化铜蒸发材料(CuO)

氧化铜蒸发材料(Copper Oxide Evaporation Material,CuO)是一种重要的过渡金属氧化物功能蒸发材料,在半导体薄膜、光电器件、气敏传感器及能源材料研究中被广泛采用。CuO 具有窄带隙、良好的 p 型半导体特性以及稳定的化学性质,适合用于制备功能氧化物薄膜与复合结构层。

在真空蒸发与 PVD 工艺中,高纯 CuO 可实现蒸发稳定、成分可控、薄膜一致性良好的沉积效果,兼顾科研探索与工程应用需求。

产品详情(Detailed Description)

氧化铜蒸发材料采用高纯铜源经受控氧化与致密化处理制备,确保材料相组成稳定、杂质含量低,适用于电子束蒸发与高真空热蒸发环境。

  • 化学组成:CuO

  • 纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)

  • 材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸

  • 制造工艺:受控氧化 → 成形 → 高温烧结

  • 蒸发特性:升华行为稳定,适合高真空沉积

高质量 CuO 蒸发材料可有效:

  • 保证 Cu²⁺ 价态稳定,引入可控的 p 型导电特性;

  • 提升薄膜致密度与电学一致性;

  • 降低蒸发过程中的成分偏析与颗粒飞溅;

  • 满足功能氧化物薄膜对可靠性的要求。

应用领域(Applications)

  • 半导体薄膜:p 型氧化物半导体层

  • 光电器件:光吸收层、功能电极层

  • 气体传感器:气敏功能薄膜

  • 能源材料:光催化、电化学相关研究

  • 科研实验:过渡金属氧化物与载流子行为研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学组成 CuO 决定电学与光学特性
纯度 99.9% – 99.99% 降低杂质对薄膜性能影响
形态 块状 / 颗粒 / 定制 适配不同蒸发源
带隙 ~1.2–1.9 eV 适合光电与半导体应用
适用工艺 电子束蒸发 / 热蒸发 功能氧化物常用
包装方式 真空密封 防止吸湿与污染

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
氧化铜(CuO) p 型半导体、窄带隙 传感与光电薄膜
氧化亚铜(Cu₂O) 更低带隙 光伏与光吸收层
氧化锌(ZnO) n 型半导体 透明导电与传感
氧化镍(NiO) p 型稳定 空穴传输层

常见问题(FAQ — 聚焦应用)

Q1:CuO 适合哪种蒸发方式?
A:适用于电子束蒸发与高真空热蒸发。

Q2:CuO 与 Cu₂O 有何区别?
A:主要区别在于铜的价态与带隙大小,直接影响导电与光学特性。

Q3:CuO 薄膜是 p 型吗?
A:是的,CuO 通常表现为 p 型半导体特性。

Q4:沉积过程中需要控制氧分压吗?
A:建议控制氧分压,以稳定薄膜的化学计量与电学性能。

Q5:是否适合气敏传感器应用?
A:非常适合,是常用的气敏功能材料之一。

Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀颗粒有助于获得稳定蒸发速率。

Q7:是否适合科研级实验?
A:是的,是过渡金属氧化物研究中的常用材料。

Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封、干燥保存,避免吸湿。

Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发源与工艺需求定制。

Q10:是否可提供其他铜基氧化物?
A:可提供 Cu₂O 等相关蒸发材料。

包装与交付(Packaging)

所有氧化铜蒸发材料(CuO)在出厂前均经过严格质量检测并建立批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保运输与储存过程中材料纯度、相组成与蒸发性能稳定。

结论(Conclusion)

氧化铜蒸发材料(CuO)凭借其稳定的 p 型半导体特性、合适的带隙结构以及良好的工艺适配性,在半导体薄膜、传感器与光电功能材料领域中具有广泛应用价值。对于需要可控电学行为与可靠沉积表现的氧化物薄膜应用,CuO 是一种成熟、可靠且科研与工程潜力兼具的蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:
sales@keyuematerials.com