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钨铌靶材（WNb）由高熔点金属钨（W）与延展性优良的铌（Nb）组成，是一种兼具高温强度、优异耐腐蚀性与稳定电学性能的高端溅射靶材。W 与 Nb 的协同作用，使其成为先进微电子器件、阻挡层薄膜、高温结构膜以及耐腐蚀涂层的关键材料。
凭借极高密度、良好致密性和薄膜均匀性，WNb 靶材在半导体、光电、显示、能源领域广泛使用，是高要求薄膜工艺中的重要合金材料之一。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密 WNb 靶材，采用真空熔炼、CIP 等静压、热等静压（HIP）等先进工艺制备，确保合金结构均匀、无裂纹、无夹杂，适合长周期稳定溅射。
成分比例：常见 W90Nb10、W80Nb20、W70Nb30（可根据工艺需求定制）
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
密度：≥ 97–99% T.D.
尺寸范围：Ø25–Ø300 mm（可定制矩形靶）
厚度：2–6 mm
制造工艺：CIP + 真空烧结 / HIP 致密化
可选背板：Cu、Mo、Ti，支持铟焊（Indium Bonding）
高熔点与优异热稳定性
低电阻率、薄膜结构均匀
出色的耐腐蚀 / 抗化学反应能力
良好附着性与薄膜致密度
适合长时间高负载溅射
由于其高温、耐腐蚀与电学稳定特点，WNb 靶材广泛用于：
半导体阻挡层（Barrier Layers）
电极金属膜（Electrode Thin Films）
耐腐蚀保护膜
显示与光电薄膜结构（Optoelectronics）
金属功能薄膜（Functional Metallic Films）
高温结构膜
新型微电子封装材料
WNb 是许多高端器件金属结构层的标准选择之一。
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 成分比例 | WNb（可定制） | 控制薄膜应力与电学性能 |
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 致密度 | ≥97–99% T.D. | 提升膜层均匀性 |
| 直径 | 25–300 mm | 兼容主流溅射设备 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按寿命定制 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 增强散热与结构稳定性 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| WNb | 高温性能优异、耐腐蚀 | 阻挡层、金属功能膜 |
| W | 极高熔点、耐磨 | 高温薄膜、栅极材料 |
| Nb | 高延展性、低电阻率 | 电极膜、超导材料 |
| MoNb | 高温结构更稳定 | 功能膜与半导体金属层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| WNb 靶材适合哪些溅射方式？ | DC、RF、脉冲溅射均可使用。 |
| W/Nb 比例能否定制？ | 可根据薄膜应力、电阻率需求调整比例。 |
| 是否提供背板？ | 提供 Cu、Ti、Mo 背板及铟焊服务。 |
| WNb 薄膜颜色如何？ | 通常呈深灰色金属光泽。 |
| 是否会出现成分偏析？ | 高均匀性工艺可避免偏析，薄膜一致性好。 |
| 可用于高温薄膜吗？ | 适合，需要高热稳定性的薄膜结构优先选择。 |
| 是否适用于大面积镀膜？ | 是，提供大尺寸靶材（≤300 mm）。 |
| 是否可提供 COA？ | 每批出厂均附检测报告与编号追溯。 |
真空密封
内部抗震泡棉
外层出口级防护木箱
每片靶材附唯一批号与 COA
钨铌靶材（WNb）凭借其卓越的高温强度、耐腐蚀性与电学稳定性，已成为高端半导体金属层、电极薄膜和保护膜的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、尺寸与成分可定制的 WNb 靶材，满足科研与产业薄膜制备需求。
如需报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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