锑化镍靶材（NiSb）

产品简介（Introduction）

锑化镍（NiSb）是一种具有半金属/半导体特性的 Ni–Sb 族化合物材料，兼具过渡金属（Ni）的电子活性与锑（Sb）的窄带隙特征。NiSb 在电学、磁学与光学行为方面表现出可调控性，是研究 热电材料、磁电协同效应、功能薄膜、界面工程 的重要化合物之一。

锑化镍靶材（NiSb Sputtering Target）通过磁控溅射能够沉积成分均匀、稳定致密的 NiSb 薄膜，适用于热电器件、红外光电器件、磁性薄膜及先进材料科学研究。

产品详情（Detailed Description）

NiSb 靶材常采用以下路线制备：

• 高纯 Ni 与 Sb 密闭直接合成（Sealed Tube Synthesis）

• 固相反应与真空烧结（Solid-State + Vacuum Sintering）

• 热压烧结（Hot Pressing, HP）

• CIP 冷等静压成型 + 高温致密化

典型属性：

• 纯度：99.9%–99.999%（3N–5N）

• 化学计量比：Ni:Sb = 1:1（可制作偏 Ni / 偏 Sb）

• 外观：深灰、金属陶瓷质感

• 致密度：≥95%–98% TD

• 尺寸：直径 25–300 mm 可定制

• 厚度：3–6 mm（可按需求调整）

• 背板选择：Cu / Ti / Mo / Indium bonding

材料特性：

• 高致密度、低颗粒溅射

• 电学和磁学特性可调

• 成膜均匀度高、界面平整

• 适合 RF 与脉冲 DC 溅射

应用领域（Applications）

● 热电薄膜材料（Thermoelectric Thin Films）

NiSb 薄膜具有良好的热电性能，可在以下结构中使用：

• 中温热电薄膜

• 热电能量采集器件

• 多层复合热电材料（如 NiSb/Sb₂Te₃）

• 薄膜热电模块

NiSb 兼具低热导率与可调载流子浓度。

● 磁性与自旋电子学材料（Magnetism & Spintronics）

由于 Ni 的过渡金属性质，NiSb 薄膜适用于：

• 铁磁/反铁磁功能层

• 磁阻结构（MR）

• 自旋极化薄膜

• 多层磁性叠层的界面层

部分 NiSb 系薄膜可表现出磁电耦合行为。

● 半导体功能薄膜（Semiconducting Thin Films）

NiSb 具备特殊电子结构，可用于：

• 载流子调控层

• 功能界面薄膜

• 光学吸收增强结构

• 电阻调控薄膜（RRAM 相关研究）

● 材料科学与基础研究（Material Science Research）

常用于：

• Ni–Sb 系相稳定性研究

• 电子/磁学耦合研究

• 薄膜多相结构调控

• Ni-rich / Sb-rich 比例研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封 & 防氧化封装

• 防静电袋双层包装

• 多层防震结构

• 出口级木箱固定

• 提供 ICP、XRD、密度与外观检测报告

确保靶材在运输与储存期间保持稳定与洁净。

结论（Conclusion）

锑化镍靶材（NiSb）凭借其优异的热电、电学与磁学属性，以及稳定的高纯结构，是热电薄膜、自旋电子学、界面工程与材料科学研究中不可或缺的功能化溅射靶材。采用高致密、高纯度 NiSb 靶材，可显著提升薄膜性能，是科研和先进薄膜制造的重要选择。

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