硅化钛靶材（TiSi）

产品简介（Introduction）

硅化钛靶材（TiSi）是一类重要的金属间化合物靶材，具备优异的导电性、热稳定性与抗高温扩散能力，广泛用于半导体薄膜、阻挡层、电极层、光电涂层及高温结构薄膜的制备。TiSi 薄膜兼具金属导电特性与硅化物的稳定性，是先进半导体工艺中常用的关键材料之一，尤其在深亚微米互连结构、栅电极及防扩散结构中表现优异。

其主要优势包括：

• 良好的导电性，适用于电极层与互连结构；

• 高温稳定，不易与 Si 或金属发生扩散反应；

• 膜层致密、均匀，附着力强；

• 卓越的抗腐蚀性能与氧化稳定性。

产品详情（Detailed Description）

我司提供 高纯度 99.9%（3N）– 99.99%（4N） TiSi 溅射靶材，采用真空熔炼、热压烧结、CIP/HIP 等先进工艺，保证材料的均匀性、低孔隙率和可重复的薄膜性能。

● 典型参数

• 化学成分： TiSi、Ti₅Si₃、TiSi₂（可根据需求定制相组成）

• 尺寸范围： Ø25–300 mm

• 厚度： 3–6 mm

• 密度： ≥98% 理论密度（TD）（TiSi₂ 系列）

• 背板： Cu / Ti / In 焊，可增强散热并防止开裂

• 制造方式： 真空熔炼 + 热压、高温烧结、HIP 加致密等

这些工艺对实际应用具有显著影响，例如：

• 提高薄膜附着力，减少颗粒与脱落；

• 增强薄膜导电性与均匀性；

• 保证在高功率溅射中的稳定性；

• 降低靶材开裂概率，显著延长使用寿命。

应用领域（Applications）

● 半导体制造

• 深亚微米工艺中的 阻挡层（Barrier Layer）

• 硅基芯片互连结构金属化

• 栅极电极薄膜

• 高温电阻薄膜

● 光电器件

• 光学反射层与增强涂层

• 红外吸收层

• 功率器件表面保护膜

● 功能薄膜与表面工程

• 抗腐蚀薄膜

• 耐磨薄膜（Ti-Si 系超硬层）

• 高温结构薄膜

● 科研用途

• 新型金属间化合物薄膜研究

• 多层结构 / 共溅射复合材料制备

• 纳米尺度电学研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有 TiSi 靶材均经过严格质量检测，并采用：

• 真空密封包装

• 防震泡沫保护

• 出口级木箱

确保靶材在运输和长期储存期间保持清洁与稳定。

结论（Conclusion）

硅化钛（TiSi）溅射靶材以其优异的导电性、热稳定性和抗扩散能力，在半导体金属化、光学薄膜和先进功能薄膜应用中扮演关键角色。它是构建高性能电子器件与光电结构的核心材料之一。

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