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氟化镁（MgF₂，行业中亦简称 MgF）是一种最经典、应用最广泛的光学氟化物材料之一，以其极低折射率、优异的光学透明性、良好的化学稳定性和耐环境性能，在光学镀膜与精密光学领域占据核心地位。MgF₂ 在紫外、可见光及近红外波段均具有极高透过率，是抗反射（AR）膜和光学保护膜的首选材料。
作为磁控溅射靶材，氟化镁能够稳定沉积低吸收、低散射、低应力的光学薄膜，广泛应用于光学元件、激光系统、光通信器件及高端科研镀膜设备中。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯氟化镁原料，通过冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）、真空烧结及精密加工工艺制备 MgF 靶材，确保靶材具有良好的致密度、稳定的溅射性能及一致的薄膜质量。
化学组成：MgF₂
纯度等级：99.9% / 99.99%（3N–4N）
靶材尺寸：Ø25–300 mm
厚度范围：3–10 mm
致密度：≥ 90–95%（氟化物材料典型水平）
制造工艺：CIP / HP / HIP / 真空烧结
背板选择：Cu / Ti 背板（支持铟焊或扩散焊）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段拼接靶
极低折射率（n≈1.38），适合 AR 膜设计
高光学透明性，覆盖 UV–Vis–NIR 波段
化学稳定性好，耐湿热环境
溅射过程稳定，颗粒率低
可形成致密、平滑、低应力薄膜
MgF 薄膜是光学行业的标准材料，用于：
抗反射膜（AR Coatings）
保护膜与缓冲层
多层光学干涉膜
激光窗口与透镜镀膜
高功率激光系统光学保护层
精密光学元件表面处理
MgF₂ 具有优异 UV 透过性能，适用于：
UV 光学窗口
真空紫外光学器件
光刻与光谱系统
光纤器件镀膜
光通信窗口薄膜
红外光学系统保护层
介电层
光学隔离层
科研级功能薄膜结构
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 决定光学损耗与膜层稳定性 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研与工业镀膜设备 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响靶材寿命与功率适配 |
| 致密度 | ≥ 90–95% | 提高溅射稳定性，降低颗粒 |
| 折射率 | ~1.38（薄膜） | 抗反射设计关键参数 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止靶材破裂 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| MgF₂ | 极低折射率、成熟稳定 | AR 膜、光学窗口 |
| ZrF₄ | 高透明性、低吸收 | UV / IR 光学薄膜 |
| AlF₃ | 化学惰性强 | UV 保护膜 |
| YbF₃ | 稀土特性、低声子能 | 激光与光子器件 |
| CaF₂ | 宽波段透过 | 红外窗口材料 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| MgF 靶材适合哪种溅射方式？ | RF 溅射最常用，DC 在合适条件下亦可。 |
| MgF₂ 是否吸潮？ | 稳定性较好，但仍建议真空密封保存。 |
| 是否适合高功率激光系统？ | 是，MgF₂ 薄膜具有低吸收特性。 |
| 能否提供大尺寸靶材？ | 支持 Ø300 mm 及非标定制。 |
| 靶材是否脆？ | 属于氟化物陶瓷材料，HIP 工艺可显著提升强度。 |
| 是否支持科研小批量？ | 支持，一片起订。 |
真空密封防潮包装
内部防震缓冲结构
外层出口级硬箱
附 ICP 杂质分析、致密度与尺寸检测报告
确保靶材在运输与储存过程中保持洁净、稳定与可追溯。
氟化镁靶材（MgF）凭借其极低折射率、优异光学透明性与成熟可靠的材料性能，是光学镀膜、激光系统及 UV 光学领域不可替代的关键材料。苏州科跃材料可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 MgF 溅射靶材，满足科研与工业应用的多层次需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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