氟化铝靶材（AlF / AlF₃）

产品简介（Introduction）

氟化铝（Aluminum Fluoride，AlF₃）是一种重要的无机氟化物材料，具有优异的化学稳定性、较低的折射率、良好的介电性能以及优良的耐腐蚀特性。AlF₃ 薄膜在光学镀膜、半导体工艺、真空电子器件及功能绝缘层中被广泛应用，尤其适用于对低折射率与高稳定性有要求的薄膜结构设计。

作为溅射靶材，氟化铝具有稳定的溅射速率、低颗粒生成（Low Particle）特性和良好的膜层均匀性，适用于 RF 磁控溅射 及 离子束沉积（IBD） 工艺，是科研与工业真空镀膜领域的常用氟化物靶材之一。

产品详情（Detailed Description）

氟化铝靶材采用高纯原料，通过真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（Hot Pressing, HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以获得高致密度和稳定的陶瓷结构。

• 化学式： AlF₃（主流）；亦可提供 AlF 特殊配比

• 纯度： 99.9%–99.999%（3N–5N，可定制）

• 密度： ≥95% 理论密度

• 尺寸： Ø25–Ø300 mm（支持矩形靶定制）

• 厚度： 3–6 mm（可定制超薄或加厚规格）

• 制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP

• 背板选项： Cu / Ti / Mo（支持铟焊）

• 外观颜色： 白色至浅灰白色致密陶瓷体，表面细腻均匀

高致密 AlF₃ 靶材可有效降低溅射颗粒，提升薄膜的光学一致性、介电性能与工艺稳定性。

应用领域（Applications）

● 光学镀膜（Optical Coatings）

• 低折射率光学薄膜

• 增透膜（AR Coatings）

• 光学保护层

• 多层干涉光学结构

● 半导体与电子薄膜

• 介电绝缘层

• 高电阻薄膜

• 功能阻挡层

• MEMS 与微电子器件薄膜

● 真空与表面工程

• 耐腐蚀涂层

• 等离子体防护层

• 真空系统内衬薄膜

● 科研与功能材料研究

• 氟化物薄膜体系研究

• 与 MgF₂、LaF₃、YF₃、SrF₂ 等材料的多层膜设计

• 光学与电子复合薄膜结构探索

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封包装

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉固定

• 出口级木箱运输

• 附 COA 与批次追溯编号

结论（Conclusion）

氟化铝靶材（AlF₃）凭借其低折射率、优异的化学稳定性和良好的薄膜沉积性能，在光学镀膜、半导体绝缘层和真空表面工程中具有重要应用价值。高纯、高致密 AlF₃ 靶材能够显著提升薄膜一致性与可靠性，是科研与工业镀膜工艺中的理想选择。

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