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钒钛靶材(VTi)由钒(V)与钛(Ti)两种轻质难熔金属组成,是一种兼具高温稳定性、轻量化、耐腐蚀和优良机械性能的功能合金靶材。VTi 合金以其低密度、高强度、优异抗氧化能力与良好薄膜附着性,被广泛用于半导体工艺、高性能保护膜、光电功能膜以及先进结构薄膜制造。
钒提供良好的延展性与导电性,而钛提供高强度、耐腐蚀性与结构稳定性,使 VTi 靶材在金属工程膜与多层复合薄膜中具有不可替代的作用。
钒钛靶材通常通过高纯钒、钛金属粉末经冷等静压(CIP)成型,并在真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)条件下烧结致密。材料结构均匀致密,颗粒率低,适合高功率磁控溅射。
典型规格与工艺:
纯度(Purity):99.9% – 99.99%
成分比例(Composition):V50Ti50、V60Ti40、V70Ti30 等常见比例,可定制
直径(Diameter):Ø25 – Ø300 mm
厚度(Thickness):3 – 6 mm
致密度(Density):≥95%–98% 理论密度(TD)
工艺路线(Process):CIP + 真空烧结 / HIP
背板(Bonding):Cu / Ti 背板或铟焊(可选)
材料优势:
轻量化 + 高机械强度
抗氧化能力强,适用于反应性溅射
成膜均匀,颗粒率低
出色的粘附性与界面控制能力
高温工况下结构与电性稳定
钒钛靶材广泛应用于高端薄膜工程,包括:
缓冲层与过渡层
金属复合膜结构
MEMS 金属层
抗反射膜
机械强化膜
光学保护层
适用于:
化工设备表面防护
高温组件
等离子环境薄膜
高韧性金属层
多层结构膜(如 Ti/V/Ti 三层复合)
摩擦学与耐磨薄膜
新型轻量化结构材料
合金相稳定性研究
金属氧化物与氮化物薄膜基础结构层
兼容 DC/RF 磁控溅射、反应溅射(Ar/O₂/N₂)、共溅射 工艺。
| 参数 | 规格范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 对电学性能与薄膜结构稳定性关键 |
| 成分比例 | V/Ti 可定制 | 控制薄膜机械性能、应力与微结构 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配实验与量产设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定溅射速率与靶材寿命 |
| 致密度 | ≥95–98% TD | 提升薄膜均匀性、降低缺陷率 |
| 背板 | Cu/Ti/In 焊 | 提高散热能力与靶材平整度 |
| 材料 | 优势 | 应用 |
|---|---|---|
| VTi | 轻量 + 高强度 + 耐腐蚀 | 保护膜、工程膜、半导体 |
| Ti 靶材 | 机械强度高、轻质 | 基础金属膜、光学膜 |
| V 靶材 | 延展性好、化学稳定 | 粘附层、电子结构膜 |
| TiW | 导电性更优 | 阻挡层、芯片互连工艺 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| VTi 靶材支持哪种溅射方式? | DC 与 RF 均可,反应溅射更具优势。 |
| 可以定制不同比例吗? | 可提供任意 V/Ti 配方。 |
| 薄膜颜色如何? | 一般呈银灰色或暗灰色金属光泽。 |
| 是否适合反应性溅射? | 是,常用于氧化物/氮化物薄膜结构。 |
| 是否建议使用背板? | 大尺寸靶材建议 Cu/Ti 背板提高散热。 |
真空密封防氧化
干燥剂与防震泡沫保护
出口级硬箱 / 木箱包装
批次编号完整可追踪
确保靶材安全洁净抵达客户。
钒钛靶材(VTi)兼具轻质、高强度、耐腐蚀与良好成膜性能,是半导体、光电工程、高温薄膜及耐磨膜的重要材料之一。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同配比、规格与背板结构的 VTi 靶材,以满足科研与产业客户的多样化需求。
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