铝镍靶材（AlNi）

产品简介（Introduction）

铝镍靶材（AlNi）由铝（Al）与镍（Ni）构成，是一种结构稳定、耐腐蚀性优异、具有良好导电与导热性能的功能性合金靶材。相比纯铝薄膜，加入镍可显著提高薄膜的硬度、耐磨性与高温稳定性，同时保持较好的沉积速率与膜层附着力。
AlNi 是电子器件、光电装置、金属反射膜、磁性材料及耐蚀功能薄膜制备中常用的合金材料。

产品详情（Detailed Description）

铝镍靶材通过真空熔炼、CIP 冷等静压、真空烧结或 HIP 热等静压工艺制备，保证靶材内部组织均匀，金属分布一致，适用于高功率溅射及精密薄膜制备。

典型规格参数

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常见成分（Composition）：

  • Al-1%Ni

  • Al-2%Ni

  • Al-5%Ni

  • Al-10%Ni

  • 可根据要求定制 1–20% Ni 比例

• 直径（Diameter）：25–300 mm 可定制

• 厚度（Thickness）：2–6 mm（可定制薄靶）

• 制造工艺（Process）：Vacuum Melting / CIP / HIP

• 背板（Bonding）：Cu / Ti / Indium bonding available

材料特性

• 膜层强度高

• 耐腐蚀与抗氧化性优于纯铝

• 成膜均匀，孔洞少

• 稳定的金属结合特性

• 在玻璃、陶瓷、Si 基片上具有良好附着力

应用领域（Applications）

1. 光学镀膜（Optical Coating）

AlNi 可用于制备：

• 高反射金属膜

• 抗氧化金属镜面层

• 保护性金属涂层

其反射性能与铝相近，但稳定性更好。

2. 微电子与半导体（Microelectronics & Semiconductor）

用于：

• 导电薄膜

• 互连结构

• 导电增强层

• 功能性金属层

加入 Ni 后提高了膜层硬度及可靠性。

3. 磁性材料相关薄膜（Magnetic Films）

尽管 AlNi 不属于强磁材料，但镍的存在使其可用于：

• 软磁阻结构调控

• 特殊磁性薄膜辅助层

• 电磁兼容涂层（EMC）

4. 耐蚀与耐磨保护膜（Protective Films）

AlNi 薄膜具有：

• 更强的抗氧化能力

• 更佳的耐磨性

• 高温环境下结构更稳定

适用于工业保护涂层与 MEMS 保护层。

5. 科研用途（R&D）

• 合金系统结构研究

• Ni 掺杂对薄膜力学性能的影响

• 表界面工程与多层膜设计

技术参数（Technical Parameters）

常见问题（FAQ）

AlNi 适合 RF 溅射吗？
适合，可用于 DC / RF 全类型溅射系统。

与纯铝相比有什么优势？
耐磨、耐蚀、高温稳定性明显提升。

能否与其他靶材共溅射？
可以，与 Al、Cu、SiO₂ 等可形成复合膜或多层结构。

膜层反射率如何？
接近 Al，但更耐氧化，适合室外或长期稳定环境。

包装（Packaging）

• 真空密封包装

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉

• 出口级纸箱或木箱

• 附批号与质检报告

结论（Conclusion）

铝镍靶材（AlNi）是一种兼具轻量、高强度、稳定性和优异薄膜性能的合金材料，在光学、半导体、电子、工业涂层及科研领域广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司可根据客户需求定制不同 Ni 含量与尺寸规格的高纯 AlNi 靶材。

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