钆铟靶材（GdIn）

产品简介（Introduction）

钆铟靶材（GdIn）由稀土金属钆（Gd）与金属铟（In）组成，是一种兼具磁性调控、电学可调性与优良薄膜附着性能的高功能合金靶材。钆具有强磁性与独特的磁热特性，而铟具备优异延展性、导电性和界面结合能力。两者复合后的 GdIn 薄膜在磁性材料、电光功能膜、传感器以及先进电子器件中表现突出。

该靶材适合用于 DC / RF 磁控溅射、反应性溅射、离子束镀膜（IBS）及 PLD（脉冲激光沉积）等多种薄膜制备工艺。

产品详情（Detailed Description）

GdIn 靶材通常采用真空熔炼、CIP 冷等静压、热压（HP）或 HIP（热等静压）等方式制备，以获得高致密度、成分均匀和低氧含量的靶材结构。精密加工后的表面适用于高功率溅射环境，放电稳定、颗粒少。

● 典型参数

• 纯度（Purity）：99.9% – 99.99%

• 成分比例（Composition，可定制）：

  • Gd 10–70%

  • In 30–90%

  • 支持原子比 / 质量比定制

• 尺寸（Size）：Ø25–300 mm 圆形靶；矩形靶可定制

• 厚度（Thickness）：2–6 mm

• 工艺（Process）：Vacuum Melting / CIP / HP / HIP

• 背板（Bonding）：Cu / Ti / In 焊接可选

● 材料特性

• 可控磁性（随钆含量变化）

• 膜层均匀、结构致密

• 良好导电性与界面润湿性

• 适用于中低温镀膜工艺

• 支持制备 GdIn-O / GdIn-N 反应性薄膜

• 对 Si、玻璃、ITO、蓝宝石等基底附着性优良

应用领域（Applications）

1. 磁性功能薄膜（Magnetic Thin Films）

Gd 的强磁性赋予 GdIn 薄膜可调磁响应特征，适用于：

• 磁致冷材料研究

• 自旋电子学（Spintronics）

• 磁传感器（Magnetic Sensors）

• 磁光薄膜

2. 光电功能膜（Optoelectronic Films）

GdIn 具有良好界面结合特性，适用于：

• 光学保护膜

• 导电功能层

• 光电探测器结构薄膜

• 红外感测薄膜

3. 半导体材料与界面工程（Semiconductor Interfaces）

Gd 与 In 的复合薄膜可用于：

• 金属接触层（Contact Layers）

• 阻挡层（Barrier Layers）

• 多层电子结构堆栈膜

• 介电界面调控

4. 传感器材料（Sensors）

适用于：

• 环境传感薄膜

• 磁敏 / 电敏复合材料

• 压力 / 应变敏感膜

技术参数（Technical Parameters）

材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

1. GdIn 靶材可用于 RF 溅射吗？
可以，兼容 DC / RF / HiPIMS。

2. 是否支持制作 300mm 靶材？
可以，支持全尺寸定制。

3. GdIn 膜层磁性可以调控吗？
可以，主要通过 Gd 含量控制。

4. 是否可做反应性溅射？
支持制备 GdIn-O / GdIn-N 功能性薄膜。

5. 是否支持背板绑定？
支持铜背板、钛背板和铟焊。

包装（Packaging）

• 双层真空密封

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡沫

• 出口级木箱/硬盒

• 每片附唯一批号与 COA

结论（Conclusion）

钆铟靶材（GdIn）凭借其可调磁性、稳定电学性能与优良薄膜附着性，在磁性薄膜、光电薄膜、传感器及半导体领域具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、成分可定制的 GdIn 靶材，满足科研与工业应用需求。

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