镨靶材(Pr)

镨靶材(Pr Sputtering Target)

产品简介

镨(Praseodymium, Pr)是一种银灰色稀土金属,具有良好的延展性、电导率和化学活性。其独特的光学、电磁和催化特性,使镨靶材在高性能薄膜材料、光电器件和功能氧化物领域中发挥着重要作用。镨靶材常用于制备Pr₂O₃、PrBaCoO₃、PrSrMnO₃等复合功能薄膜,是新型能源与电子材料研究的关键材料之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镨靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空熔炼及热等静压(HIP)工艺制备,靶材致密均匀、表面光洁、溅射性能稳定。
可提供圆形、矩形及异形靶材,适配直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。
可选铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提升热传导与机械稳定性。

技术特点

  • 高纯度稀土金属,低氧低氮杂质含量;

  • 致密结构,溅射均匀性优异;

  • 优良的电学与光学兼容性;

  • 支持定制合金或复合靶设计;

  • 稳定性高,膜层附着力强。

应用领域

  • 光学镀膜:用于红外反射膜、滤光膜及抗反射膜;

  • 半导体材料:用于电极层、掺杂层及阻挡层;

  • 能源材料:用于固体氧化物燃料电池(SOFC)电极薄膜;

  • 光电与磁光功能膜:用于Pr掺杂氧化物、铁电薄膜及磁性层;

  • 科研实验:用于Pr基复合氧化物及新型稀土材料研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度可减少薄膜缺陷与杂质影响
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射设备
厚度 3 – 6 mm 影响膜层厚度与溅射速率
密度 ≥ 6.77 g/cm³ 致密度高,溅射均匀性好
背板结合 Cu / Ti / In 焊 增强散热与结构稳定性
制备工艺 真空熔炼 + HIP 结构致密、寿命长、溅射平稳

常见问题(FAQ)

问题 答案
镨靶材可用于哪些溅射系统? 可用于DC与RF磁控溅射系统,兼容多种真空镀膜设备。
镨靶材的主要应用是什么? 主要用于制备氧化物、磁性及电极薄膜。
是否可与其他靶材共溅射? 可以,与Ba、Sr、Mn、Co等共溅射形成复合薄膜。
是否易氧化? 是的,应在惰性气体或真空环境中储存与操作。
是否可提供背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合,提升热导性能。
可否定制规格? 可提供Ø25–Ø300 mm圆形、矩形或异形靶材定制。
是否适用于科研用途? 是的,广泛应用于稀土功能膜与能源材料研究。
包装方式? 采用真空密封、防震、防潮包装,确保洁净运输。

结论

镨靶材以其优异的稀土特性与高纯度结构,被广泛用于光学、磁学及能源领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的镨靶材及背板焊接服务,确保膜层质量稳定、性能可靠,广泛服务于科研院所与高端制造客户。

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📧 sales@keyuematerials.com