镥靶材(Lu)

镥靶材(Lu Sputtering Target)

产品简介

镥(Lutetium, Lu)是稀土元素中原子量最大、密度最高的金属之一,具有优异的热稳定性、化学惰性及光学性能。镥靶材在高端光学、半导体、光电和科研领域中应用广泛,特别适用于制备高折射率薄膜、发光材料及稀土掺杂氧化物薄膜。其优良的成膜特性使其成为精密光学镀膜与功能材料研发的重要基础材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镥靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空熔炼与热等静压(HIP)工艺制备,晶粒细小、组织致密,表面光洁度高,溅射性能稳定。
靶材可制成圆形、矩形及异形结构,适配直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。
可根据需求提供铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提升散热性能与机械稳定性。

技术特点

  • 高纯度稀土金属(3N–4N),低氧低杂质;

  • 致密结构,溅射均匀性优异;

  • 适合高折射率与光学膜层制备;

  • 良好的热稳定性与导电性能;

  • 可根据客户需求定制尺寸、厚度与形状。

应用领域

  • 光学镀膜:用于高折射率膜层与滤光膜制备;

  • 半导体材料:用于介电层与掺杂膜;

  • 光电与显示技术:用于发光层与透明电极;

  • 稀土功能膜:用于Lu₂O₃薄膜制备;

  • 科研实验:用于稀土掺杂氧化物、晶体薄膜及多层结构研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度减少薄膜缺陷与杂质污染
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射设备
厚度 3 – 6 mm 影响膜层沉积速率
密度 ≥ 9.84 g/cm³ 致密度高,膜层均匀性好
背板结合 Cu / Ti / In 焊 提升散热与机械稳定性
制备工艺 真空熔炼 + HIP 组织均匀、性能稳定、寿命长

常见问题(FAQ)

问题 答案
镥靶材可用于哪些溅射系统? 可用于DC与RF磁控溅射系统。
镥靶材沉积的薄膜具有什么特性? 具有优异的光学透明性与折射率控制能力。
是否可与其他材料共溅射? 可以,与Y、Gd、Al、Ti等共溅射制备复合薄膜。
是否易氧化? 镥在空气中易氧化,应在惰性气氛中保存。
是否提供背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合,以增强热导性能。
可否定制规格? 可提供Ø25–Ø300 mm及矩形靶材定制服务。
是否适用于光学镀膜? 是的,广泛用于高折射率与激光光学膜制备。
包装方式? 真空密封、防震、防潮包装,确保洁净运输。

结论

镥靶材以其高纯度、优异光学性能及稀土特性,广泛应用于光电、半导体与科研领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镥靶材及专业背板焊接服务,确保薄膜性能稳定、溅射寿命长,为高端制造与科研应用提供可靠支持。

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📧 sales@keyuematerials.com