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镥蒸发材料采用高纯金属镥原料,经真空精炼、惰性气氛处理与精密成形制备,严格控制氧、碳等杂质含量,确保在高真空环境下具备稳定、可重复的蒸发行为。
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:小块、颗粒、定制尺寸
制造工艺:真空精炼 + 惰性气氛加工
表面状态:低氧化、低吸附,适合高真空蒸发
高纯度镥蒸发材料可有效:
提升稀土薄膜成分控制精度;
减少蒸发过程中的不稳定通量;
改善薄膜致密度与光学均匀性;
提高实验与量产工艺的可重复性。
光学镀膜:高折射率薄膜、红外与可见光功能层
稀土氧化物薄膜:Lu₂O₃ 等反应蒸发或前驱体薄膜
半导体与器件研究:功能调控层、界面工程
激光与闪烁材料研究:稀土基功能薄膜
科研实验:先进材料、能级与结构调控研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 保证薄膜性能与一致性 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 单颗粒尺寸 | 可定制 | 影响蒸发通量稳定性 |
| 熔点 | ~1663 °C | 适合中高温蒸发 |
| 适用工艺 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止氧化与吸附污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 镥(Lu)蒸发材料 | 稀土稳定性高、成分可控 | 高端光学与功能薄膜 |
| 钇(Y) | 工艺成熟 | 通用稀土氧化物薄膜 |
| 铥(Tm) | 能级特性突出 | 光学与激光相关薄膜 |
| 铒(Er) | 光通信应用广泛 | 放大器与光学薄膜 |
Q1:镥蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:适用于电子束蒸发与高温热蒸发系统,适合稀土及高稳定性薄膜制备。
Q2:镥在薄膜中的主要作用是什么?
A:作为高纯稀土源,用于调控光学、电学与结构性能。
Q3:镥蒸发对真空度要求高吗?
A:建议在高真空条件下使用,以减少氧化和杂质引入。
Q4:镥薄膜容易氧化吗?
A:相较活泼稀土更稳定,但仍建议严格真空控制。
Q5:可以用于反应蒸发制备氧化物吗?
A:可以,常用于 Lu₂O₃ 等稀土氧化物薄膜制备。
Q6:颗粒尺寸是否影响蒸发稳定性?
A:是的,均匀尺寸有助于稳定蒸发速率和膜厚控制。
Q7:镥薄膜的光学性能如何?
A:具有良好的透明性和折射率调控潜力。
Q8:是否适合科研级实验?
A:非常适合,尤其在光学与稀土材料研究中。
Q9:镥蒸发材料如何储存?
A:建议真空密封或惰性气氛保存,避免长期暴露空气。
Q10:是否支持定制规格?
A:支持,可根据设备结构与工艺需求定制。
所有镥蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性。
镥蒸发材料(Lu)凭借其优异的化学稳定性与稀土功能特性,在高端光学薄膜、功能氧化物薄膜及前沿科研领域展现出重要价值。对于追求高一致性与高可靠性的薄膜沉积工艺,镥蒸发材料是一种值得信赖的高端选择。
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