镍铬硅靶材（NiCrSi）

产品简介（Introduction）

镍铬硅靶材（NiCrSi）是一种由镍（Ni）、铬（Cr）和硅（Si）组成的多元功能合金靶材，兼具稳定电阻率、高温抗氧化性、结构强化能力和优异的膜层附着性。Ni 提供良好的延展性与导电性，Cr 提升耐腐蚀与高温稳定性，Si 的加入可显著降低膜层颗粒、提高致密性并改善高温氧化性能，使 NiCrSi 成为精密电阻薄膜、高温结构膜和光学功能膜的重要材料。

NiCrSi 靶材常用于电子电阻材料、微电子封装、薄膜加热元件以及多层金属膜结构，是在苛刻应用条件下保持稳定性能的高可靠性靶材。

产品详情（Detailed Description）

NiCrSi 靶材采用高纯 Ni/Cr/Si 原料，通过精确称量、混料、冷等静压（CIP）成型，并在高真空条件下烧结（Vacuum Sintering）或采用热等静压（HIP）处理，使靶材达到高致密度、高均匀性、低颗粒率的要求。

典型参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常用比例（Composition）：

  • Ni80Cr15Si5

  • Ni70Cr20Si10

  • Ni60Cr25Si15

  • 可按需求定制 Ni/Cr/Si 比例

• 直径（Diameter）：Ø25–300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm（可提供薄靶）

• 致密度（Density）：≥95–98% 理论密度

• 工艺（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP

• 背板（Bonding）：可提供 Cu / Ti 背板或铟焊结合（In Bonding）

材料特点：

• 温度系数（TCR）稳定，可控电阻率

• 耐腐蚀性强，高温氧化稳定性优异

• Si 提升膜层致密度、降低颗粒率

• 成膜平整，膜应力低

• 对玻璃、陶瓷、金属基底均有良好附着性

• 支持 DC 和 RF 磁控溅射

应用领域（Applications）

1. 精密电阻薄膜（Resistive Thin Films）

• 电阻网络

• 高稳定性薄膜电阻器

• 可调电阻膜

• 加热元件薄膜

2. 电子封装与微电子工艺（Microelectronics & Packaging）

• 金属粘附层

• 密封结构膜

• 多层金属堆栈过渡层

• 功率器件保护膜

3. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 多层结构金属膜

• 光学保护层

• 红外吸收膜 / 反射膜

4. 高温与耐蚀工程薄膜（High-Temperature & Protective Films）

• 氧化保护膜

• 耐腐蚀结构膜

• 高温设备强化金属膜

5. 科研用途（R&D Applications）

用于开发：

• Ni-Cr-Si 多元功能薄膜

• 高温电阻膜材料

• NiCrSi 氧化物/氮化物薄膜体系

• 多层金属与复合膜结构

技术参数（Technical Parameters）

材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 干燥剂防潮

• 多层防震泡棉

• 出口级木箱或硬箱

• 每片靶材附唯一批号追踪

结论（Conclusion）

镍铬硅靶材（NiCrSi）兼具高温稳定性、耐腐蚀性、低颗粒、可控电阻率等优势，是高可靠性电阻膜、光学镀膜与高温结构膜的关键材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供各种规格、成分及背板配置，为科研与工业客户提供稳定可靠的薄膜材料解决方案。

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