镁板(Mg)

镁板(Mg Plate)以其极轻密度与优良导热性能,广泛应用于航空、电子、科研及真空设备中,是高性能轻质金属材料的理想选择。

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描述

镁板(Magnesium Plate, Mg Plate)

产品简介

镁板(Mg Plate)是一种由高纯镁制成的轻质金属板材,具有低密度、高比强度、优良导热与电磁屏蔽性能
作为一种极具发展潜力的结构材料,镁板广泛用于航空航天、汽车轻量化、电子通讯、光学仪器及科研实验等领域。
其独特的轻质特性和可加工性,使其成为当今高性能金属材料体系中的重要成员。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯镁板采用真空熔炼—热轧—退火—精抛光工艺制造,板面平整光滑、组织致密均匀、边缘无裂纹。
产品符合 ASTM B90 / ISO 9001 标准,可提供纯镁板与镁合金板(如 AZ31、AZ91、ZK60 等)两种版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 密度:1.74 g/cm³

  • 厚度范围:0.3 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 600 × 600 mm

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 抛光光亮 / 无氧化层


性能特点

  • 极轻密度:仅为铝的三分之二,是最轻的结构金属之一。

  • 高比强度:强度重量比高,适合轻量化结构件。

  • 优良导热与导电性能:适用于热控与电磁屏蔽组件。

  • 良好加工性:易于切削、冲压与焊接。

  • 可回收性强:绿色环保材料。


应用领域

  • 航空航天与汽车工业:结构减重与防振组件。

  • 电子设备外壳与散热底板:导热性能优异。

  • 真空镀膜系统与夹具:轻质且稳定。

  • 科研实验与金属研究:高纯镁板样品与制备基底。

  • 光学与磁屏蔽系统:适用于精密仪器支架与屏蔽板。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.99% 纯度越高稳定性越好
密度 1.74 g/cm³ 极轻结构金属
熔点 650 °C 加工时需防氧化
电导率 22 × 10⁶ S/m 稳定导电性
热导率 156 W/m·K 优良导热性
抗拉强度 180–250 MPa 高强轻质结构
延伸率 10–20% 良好加工性能
硬度 HV 40–60 可根据退火状态调节

常见问题(FAQ)

问题 答案
镁板是否易燃? 仅镁粉或细屑易燃,固态镁板在正常使用中安全。
是否可用于真空系统? 可用于真空夹具及热控结构。
是否具磁性? 无磁性。
是否可焊接? 可采用TIG焊或惰性气体保护焊。
是否会氧化? 建议在干燥或惰性环境中使用,可做防氧化涂层。
是否附检测报告? 附化学成分与纯度检测报告。
是否支持定制尺寸? 可按需求加工切割。
是否符合环保标准? 符合RoHS与REACH要求。

包装与交付

所有镁板出厂前均经过真空退火与纯度检测。产品采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层配防震泡沫与出口木箱包装。
提供 COC、检测报告、RoHS/REACH 认证文件

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.