锰镍靶材（MnNi）

产品简介（Introduction）

锰镍靶材（MnNi）由锰（Mn）与镍（Ni）组成，是一种兼具可控电阻率、稳定磁性、高温结构稳定性与良好成膜质量的多功能合金靶材。Ni 赋予材料稳定的机械性能与优异的耐腐蚀性，而 Mn 可调节电阻特性、磁性与薄膜微结构，使 MnNi 在磁性薄膜、传感器、电阻薄膜和功能性多层膜结构中具有重要地位。

MnNi 也是多种磁性材料（如 MnNi 合金磁体、阻挡层磁性调控结构）的关键组成，是科研与工业薄膜制备中常用的功能靶材。

产品详情（Detailed Description）

MnNi 靶材采用高纯 Mn 与 Ni 原料，经过精确称量、粉体混合、冷等静压（CIP）成型，并在真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）工艺下制成，确保高致密度（95–98% TD）、低氧含量和良好微结构均匀性。

典型规格参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常见成分比例（Composition）：

  • Mn50Ni50

  • Mn40Ni60

  • Mn30Ni70

  • 可按需求定制 Mn/Ni 比例

• 直径（Diameter）：Ø25–300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm（可提供超薄靶材）

• 致密度（Density）：≥95–98% 理论密度

• 工艺路线（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP

• 背板（Bonding）：镀铜背板（Cu）、钛背板（Ti）或铟焊（In Bonding）

材料特点：

• Mn 提供磁性调控、可控电阻和微结构强化

• Ni 提供耐腐蚀性、可加工性与机械稳定性

• 膜层颗粒低、表面均匀、附着力强

• 成膜电阻率及磁性可通过 Mn/Ni 比调整

• 支持 DC / RF 溅射

• 适用于反应性溅射（MnNi-O / MnNi-N 薄膜）

应用领域（Applications）

1. 磁性薄膜（Magnetic Thin Films）

• 弱磁性或可调磁性结构膜

• 自旋电子器件（Spintronics）

• 传感磁薄膜

• 磁阻结构研究（GMR / TMR 体系）

MnNi 具有可调磁性，在磁性材料研发中使用广泛。

2. 精密电阻薄膜（Precision Resistive Films）

• 精密电阻器薄膜

• 热敏电阻结构

• 多层电阻堆栈

• 电子电路阻值调控膜

3. 半导体封装与互连（Semiconductor & Packaging）

• 粘附层（Adhesion Layer）

• 导电层与过渡层

• 金属化结构膜

• 多层薄膜系统中间层

4. 传感器（Sensors）

• 电磁传感器

• 压力/应变传感薄膜

• 温度传感金属膜

5. 光学与工程功能膜（Optical & Functional Coatings）

• 中间结构层

• 保护膜与防腐膜

• 多层膜机械强化结构

技术参数（Technical Parameters）

材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封封装

• 干燥剂防潮保护

• 多层防震泡棉

• 出口级硬箱 / 木箱

• 每片靶材附唯一批号与检测记录

结论（Conclusion）

锰镍靶材（MnNi）具有优秀的可调电阻、磁性控制特性、稳定成膜性与良好附着性能，是磁性薄膜、精密电子、电阻层与多层功能膜的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、多成分比例、不同尺寸与工艺的 MnNi 靶材，是科研与量产的理想供应商。

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