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锰铜靶材(MnCu)由锰(Mn)与铜(Cu)组成,是一种兼具可控电阻率、优异热稳定性、低温度系数(TCR)与良好膜层附着力的功能合金靶材。Cu 具有优异导电性与延展性,而 Mn 的加入可显著改变合金的电阻特性、磁性与结构稳定性,使 MnCu 在电阻薄膜、传感器、微电子封装与光学功能膜等领域表现出独特优势。
MnCu 也是精密电阻材料中典型的结构合金,是电子薄膜行业常用的重要功能靶材之一。
MnCu 靶材采用高纯 Mn 与 Cu 原料,通过精确配比、粉末混合、冷等静压(CIP)成型,并在高真空烧结或热等静压(HIP)工艺下制备,以得到高致密度、低氧含量和均匀组织结构的靶材材料。
纯度(Purity):99.9%–99.99%
常见 Composition 比例:
Mn10Cu90
Mn20Cu80
Mn30Cu70
可根据需求定制任意 Mn/Cu 比例
直径(Diameter):Ø25–300 mm
厚度(Thickness):3–6 mm(可提供薄靶)
致密度(Density):≥95–98% TD
工艺路线(Process):CIP + Vacuum Sintering / HIP
背板(Bonding Options):Cu / Ti 背板 或 铟焊(In Bonding)
Mn 调节电阻率,Cu 提供良好延展性
稳定的 TCR(可实现低温漂特性)
高温性能优良,膜层致密
膜应力低,附着力强
可用于 DC / RF 磁控溅射
适合集成多层结构中的粘附层或电阻层
微电子电阻元件
可调电阻薄膜
稳定 TCR 电阻膜
薄膜加热层
MnCu 常作为稳定电阻材料用于高精度电阻膜结构。
金属粘附层
电极结构中间层
导电薄膜
多层金属堆栈过渡层
压力传感薄膜
电磁传感薄膜
热敏电阻结构
吸收层
光学中间层
导电结构膜
抗腐蚀膜
结构增强膜
高稳定性金属保护层
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 提升薄膜电性与稳定性 |
| Mn/Cu 比例 | 可定制 | 决定电阻特性与 TCR |
| 致密度 | ≥95–98% TD | 颗粒率低、更高膜层均匀性 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率与寿命 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适应多种腔体与设备 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提升散热并避免靶材开裂 |
| 材料 | 特性 | 应用 |
|---|---|---|
| MnCu | 可控电阻率 + 稳定 TCR | 电阻膜、传感器、电子薄膜 |
| Cu(铜) | 高导电性 | 电极、导电层 |
| Mn(锰) | 调整电阻与磁性 | 电阻合金添加剂 |
| NiCr | 稳定电阻层 | 常规电阻膜材料 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| MnCu 靶材主要用于哪些行业? | 精密电阻、电极层、传感器与电子薄膜结构。 |
| Mn/Cu 比例可以调整吗? | 可完全按需求定制。 |
| 是否兼容 RF 溅射? | 完全兼容。 |
| 大尺寸靶材是否建议背板? | 建议使用 Cu/Ti 背板以增强散热与平整度。 |
| MnCu 是否适用于多层结构? | 非常适合,可作为中间层或功能层。 |
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附唯一批号便于追踪
锰铜靶材(MnCu)凭借其可控电阻率、稳定 TCR、高均匀性和强附着性,广泛应用于电阻薄膜、传感器、电子封装与光学结构膜。苏州科跃材料科技有限公司可提供全规格 MnCu 靶材,是科研与量产的理想材料供应商。
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