锗锑硒碲靶材（GeSbSeTe）

产品简介（Introduction）

锗锑硒碲靶材（GeSbSeTe）是一类新型多组元薄膜材料，结合了锗（Ge）、锑（Sb）、硒（Se）与碲（Te）的优势特性，具备优异的光学、热学与电学性能。该材料可形成可逆相变结构、可调能带结构以及高稳定性的非晶/晶体转换特性，在光存储材料、相变存储器（PCM）、光子芯片、红外光电探测器及先进功能薄膜领域中应用广泛。

作为一种多功能相变材料靶材，GeSbSeTe 在薄膜沉积中表现出高均匀性、低颗粒率、可控应力及优良附着力，是科研机构和高端制造企业重点使用的高性能材料。

产品详情（Detailed Description）

GeSbSeTe 靶材通常通过高纯金属与准金属材料合成，经真空熔炼、粉末冶金、CIP、HIP、高温固相反应或热压烧结等方式制备，以保证高致密度和稳定的相结构。
通过调整 Ge / Sb / Se / Te 的比例，可实现不同的相变速率、光学性质与电导率，满足芯片制造与光存储技术的要求。

可提供的典型参数：

• 纯度：99.9% – 99.99%

• 成分比：可根据项目需求定制（如光存储、PCM 或红外应用专用比例）

• 尺寸：Φ25 – Φ300 mm（支持方形、阶梯靶等）

• 厚度：3–6 mm（可按设备标准定制）

• 致密度：≥97%

• 背板键合：Cu 背板、Ti 背板、In 焊（可选）

材料性能优势：

• 可逆相变能力强

• 薄膜均匀性高，颗粒低

• 能带结构可调，兼具导电与光学性能

• 热稳定性优良，耐热冲击

• 膜层附着力强，结构应力低

• 在纳米尺度下保持良好的一致性

应用领域（Applications）

GeSbSeTe 合金靶材具有高多样性，适用于以下先进领域：

• 相变存储器（PCM / PCRAM）

• 光存储薄膜（如高速可擦写光盘）

• 光子芯片与硅基光学器件

• 红外探测器与红外调制薄膜

• 可调光学薄膜（Variable Optical Layer）

• 激光写入记录材料

• 复杂复合薄膜结构工程

• 科研实验中对相变动力学的研究

作为一种可调控相与多功能材料，GeSbSeTe 被认为是下一代非易失存储器与光电子器件的重要候选材料。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. GeSbSeTe 与 GST 的区别是什么？
GeSbSeTe 具有更高的热稳定性和更多能带调控空间，适应更高端应用场景。

2. 是否可定制不同成分？
可以，按 PCM、光学或红外需求提供定制配方。

3. 是否适用于 RF 和 DC 溅射？
适用于 RF / DC / 磁控溅射设备。

4. 是否会产生颗粒？
高致密度能显著降低颗粒、减少薄膜缺陷。

5. 相变温度可调吗？
可通过成分比例精确控制相变温度与速度。

6. 可否用于大尺寸设备？
支持 4″、6″、8″、12″ 靶材。

7. 是否提供检测报告？
附 ICP 成分分析、密度、尺寸、外观等检测。

包装与交付（Packaging）

• 真空密封

• 防震泡棉保护

• 出口级木箱 / 高强度纸箱

• 唯一编号追溯系统

确保靶材在运输中安全无污染。

结论（Conclusion）

锗锑硒碲靶材（GeSbSeTe）凭借其可逆相变特性、优异光电性能与高度可调结构，是相变存储器、光子学和高端光学薄膜的重要材料。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、多种成分可选的 GeSbSeTe 靶材，满足科研与产业化需求。

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