锗蒸发材料（Ge）

产品详情（Detailed Description）

锗蒸发材料采用高纯金属锗原料，经真空熔炼、精炼与洁净成形工艺制备，严格控制杂质与表面氧化，确保在高真空环境下具备一致、可重复的蒸发性能。

• 纯度范围：99.99% – 99.999%（4N–5N）

• 材料形态：颗粒、块状、片状、定制尺寸

• 制造工艺：真空熔炼 + 精密成形 / 分级

• 表面状态：低氧化、低吸附，适合直接蒸发

高纯锗蒸发材料可有效：

• 保证蒸发速率平稳，减少颗粒与污染；

• 提升薄膜成分与厚度均匀性；

• 改善半导体薄膜的电学与光学一致性；

• 提高科研与量产工艺的可重复性与良率。

应用领域（Applications）

• 红外光学镀膜：红外窗口、透过与功能薄膜

• 半导体与微电子：Ge 薄膜、异质结构与界面层

• 光电与探测器件：红外探测相关薄膜

• 功能与合金薄膜：Ge 基或 Ge 掺杂薄膜

• 科研实验：半导体物性、能带与界面工程研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：锗蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发，工艺窗口成熟稳定。

Q2：锗薄膜常用于哪些领域？
A：红外光学、半导体器件及功能薄膜研究。

Q3：锗蒸发对真空条件要求高吗？
A：建议在高真空条件下使用，以获得高纯净薄膜。

Q4：锗薄膜容易氧化吗？
A：表面可形成薄氧化层，但在真空沉积中可有效控制。

Q5：是否可以与其他材料共蒸发？
A：可以，常与 Si、Sn、Se 等共蒸发制备功能薄膜。

Q6：颗粒尺寸会影响蒸发效果吗？
A：会，均匀尺寸有助于稳定蒸发速率和膜厚控制。

Q7：锗薄膜的光学性能如何？
A：在红外波段具有良好透过与稳定表现。

Q8：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是半导体与红外材料研究中的常用材料。

Q9：锗蒸发材料如何储存？
A：建议真空密封保存，避免表面氧化与污染。

Q10：是否支持定制规格与高纯度？
A：支持，可提供定制尺寸及 5N 等高纯等级。

包装与交付（Packaging）

所有锗蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测，并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。

结论（Conclusion）

锗蒸发材料（Ge）凭借其稳定的半导体特性、优异的红外光学性能以及成熟可靠的蒸发工艺，在红外光学、半导体与功能薄膜领域中占据重要地位。对于追求高一致性、高性能与可重复性的薄膜沉积应用，锗蒸发材料是一种值得信赖的经典选择。

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