锌铜靶材(ZnCu)

锌铜靶材(ZnCu)

产品简介(Introduction)

锌铜靶材(ZnCu)由锌(Zn)与铜(Cu)组成,是一种兼具优异导电性、良好成膜性能与稳定化学性质的功能合金靶材。Zn–Cu 合金具有适中的金属硬度、良好的延展性与出色的界面润湿性,可在薄膜沉积过程中获得致密、均匀、粘附性强的金属薄膜。

锌提供良好的流动性与表面平整度,而铜提供高电导率与结构稳定性,使 ZnCu 靶材成为电子薄膜、导电结构膜以及多层金属薄膜中的常用溅射材料之一。


产品详情(Detailed Description)

锌铜靶材采用高纯金属粉末,经冷等静压(CIP)成型,并在真空烧结(Vacuum Sintering)或热压(Hot Pressing)条件下致密化制备。其内部结构均匀、致密度高,能够在 DC/RF 磁控溅射设备中保持稳定运行,且颗粒率低。

典型规格:

  • 纯度(Purity):99.9% – 99.995%

  • 成分比例(Composition):可按需求定制,如 Zn70Cu30、Zn50Cu50、Zn30Cu70

  • 直径(Diameter):Ø25 – Ø300 mm

  • 厚度(Thickness):3 – 6 mm

  • 制造工艺(Process):CIP + 真空烧结 / 热压烧结

  • 致密度(Density):≥95% TD

  • 背板(Bonding):可提供 Cu/Ti 背板、铟焊等结构

材料性能优势:

  • 优异导电性

  • 成膜平整、均匀

  • 良好的金属附着性能

  • 化学性质稳定、易于控制

  • 高功率溅射条件下仍保持良好稳定性


应用领域(Applications)

ZnCu 靶材以其良好的金属特性与稳定工艺性能,在多个薄膜领域广泛应用:

1. 导电薄膜(Conductive Films)

适用于:

  • 功能金属层

  • 导电互连结构

  • 电子元件金属膜层

2. 微电子与半导体(Microelectronics)

用于:

  • 粘附增强层

  • 扩散阻挡前的过渡金属薄膜

  • 芯片封装中的结构层

3. 光电与显示技术(Optoelectronics)

常用于:

  • 显示面板金属层

  • 透明电极辅助结构

  • 材料过渡层

4. 多层金属结构(Multilayer Thin Films)

ZnCu 作为调节界面性能与应力的材料,可加入:

  • 金属/金属复合膜

  • 金属/氧化物界面层

  • 功能复合结构膜

兼容 DC 磁控溅射、RF 溅射、共溅射、反应溅射


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9%–99.995% 提高薄膜纯净度与电学性能
成分比例 Zn/Cu 可定制 调节薄膜导电性与附着力
直径 Ø25–300 mm 适配各种溅射设备
厚度 3–6 mm 影响靶材寿命与沉积速率
致密度 ≥95% TD 提升薄膜均匀性、减少缺陷
背板 Cu/Ti/In 焊 提高散热与结构稳定性

相关材料对比(Comparison)

材料 特点 应用
ZnCu 良好导电性、成膜平滑 导电层、电子结构膜
Cu 靶材 极高电导率 互连结构、电极层
Zn 靶材 成膜平整、适合透明电子 TCO 薄膜、过渡层
ZnSn 可用于透明导电膜 显示、光电材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
ZnCu 靶材适用于哪种溅射方式? DC/RF 均可,金属体系 DC 更常用。
能否定制不同 Zn/Cu 比例? 可以提供任何比例的合金配方。
是否需要背板? 大尺寸靶材建议加 Cu/Ti 背板以改善散热。
成膜颜色如何? 随 Zn/Cu 比例变化,整体呈银白到金属铜色之间。
Zn 会不会在高温下挥发? 建议控制溅射功率与基底温度即可。

包装(Packaging)

  • 真空密封防氧化

  • 多层防震泡沫保护

  • 干燥储存

  • 出口级硬箱/木箱包装

  • 批次编号全程可追踪

确保靶材洁净、安全抵达客户工厂。


结论(Conclusion)

锌铜靶材(ZnCu)凭借成膜平整、导电性良好与优异界面性能,在电子薄膜、微电子加工、显示技术和金属复合膜结构中具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供多种成分配比、尺寸规格及背板结构的 ZnCu 靶材,是科研院所与工业客户的稳定合作伙伴。

如需技术数据或报价,请联系:
📩 sales@keyuematerials.com