锌丝(Zn)

高纯锌丝具有优良的导电性与抗腐蚀性,适用于真空蒸发、热喷涂、防腐与电化学实验。纯度可达99.999%,表面光洁无氧化层,支持定制规格。

描述

锌丝(Zn Wire)

产品简介

锌丝(Zn Wire)是一种由高纯锌(Purity ≥ 99.9%)制成的柔性金属丝材,具有优良的延展性、导电性和抗腐蚀性能。锌具有较低的熔点(419.5°C),易熔化与蒸发,广泛应用于热喷涂、真空蒸发镀膜、防腐涂层及电化学实验等领域。
高纯锌丝以其均匀的化学成分与高光洁表面,成为科研与工业中的重要金属材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯锌丝采用真空熔炼—拉丝—退火—表面清洁工艺制备,产品纯度高、结构致密、表面亮洁。可根据用途提供不同直径及线态形式(直丝或卷丝)。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.1 – 5.0 mm(可定制)

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:银白色 / 抛光 / 无氧化层

高纯锌丝具有低蒸气压、易熔化和良好的化学稳定性,非常适合真空蒸发镀膜与阴极保护工艺。

应用领域

锌丝以其优异的物理与化学性能,广泛应用于:

  • 真空蒸发与镀膜:用于光学薄膜、电接触层及金属反射层制备。

  • 热喷涂防腐:作为阴极保护材料用于钢结构与船舶防腐。

  • 电化学实验:用于电极制备与电池研究。

  • 金属焊接与合金生产:用于低熔点合金和焊料制造。

  • 科研与冶金实验:作为金属源或还原剂使用。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度降低杂质影响
密度 7.14 g/cm³ 结构致密均匀
熔点 419.5 °C 易熔化,适合蒸发
电导率 16.6 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 116 W/m·K 稳定导热性能
延展性 便于拉丝加工
工艺 真空熔炼 + 拉丝 确保纯度与表面质量

常见问题(FAQ)

问题 答案
锌丝能否用于真空蒸发? 可以,常用于金属镀膜与光学薄膜蒸发源。
是否容易氧化? 产品表面经真空包装,可长期储存。
是否可定制直径? 支持0.1–5.0 mm范围定制。
是否具磁性? 无磁性。
可否用于防腐喷涂? 是的,广泛用于热喷涂阴极保护。
可否用于电极? 可作电极材料或电池阳极。
是否附检测报告? 附纯度、尺寸及外观检测报告。
是否可卷盘包装? 可提供线轴、盘装或切段形式。
是否支持科研小量? 支持科研样品及批量供货。
交货周期? 常规规格2–3周。

包装与交付

锌丝出厂前均经纯度检测与表面检验。采用真空密封、防氧化、防潮包装,并以线盘或木箱方式运输。提供RoHS、REACH、COC及材质分析文件,确保产品安全交付。

结论

锌丝(Zn Wire)以其高纯度、低熔点与优异的导电性,广泛应用于真空蒸发、防腐镀层和科研实验,是电子与材料工程中的关键金属材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.