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锆钨靶材(ZrW)由锆(Zr)与钨(W)组成,是一种兼具高熔点、优异耐腐蚀性、强金属键合力与良好机械强度的难熔合金靶材。Zr–W 系合金在高温薄膜、耐蚀防护膜、阻挡层、功能结构膜及高硬度表面工程中具有显著优势,特别适用于严苛环境下的薄膜应用。
锆可提供优异的耐腐蚀性、化学稳定性与结构相容性,而钨则带来极高熔点、耐磨性和优异的高温力学特性,使 ZrW 合金靶材成为高性能薄膜工程中的重要材料。
锆钨靶材通过高纯金属粉末,采用冷等静压(CIP)成型,并结合真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)制造。靶材晶粒细密、成分分布均匀,机械强度高,可在高功率溅射条件下保持稳定。
典型规格:
纯度(Purity):99.9% – 99.99%
成分比例(Composition):Zr/W 可按需求定制(如 Zr70W30、Zr50W50 等)
直径(Diameter):Ø25–Ø300 mm(含 1″ / 2″ / 3″ 常规尺寸)
厚度(Thickness):3–6 mm
工艺路线:CIP + 真空烧结 / HIP
致密度(Density):≥95–98% TD
背板(Bonding):可选 Cu / Ti 背板或铟焊结构
核心性能优势:
极高耐高温能力(钨的高熔点 3410°C)
优秀的耐腐蚀性能(由 Zr 提供)
强韧合金结构,抗裂性优异
稳定溅射性能,低颗粒率
适合长时间连续溅射工况
ZrW 靶材凭借其耐高温、耐腐蚀与高机械强度特性,广泛用于:
高温防护层
耐热结构薄膜
航空发动机部件薄膜
耐腐蚀薄膜
抗冲蚀薄膜
结构强化膜
阻挡层(Barrier Layer)
粘附层(Adhesion Layer)
过渡金属功能膜
硬质膜
耐磨膜
高应力条件下的结构薄膜
合金相结构研究
高熔点薄膜材料开发
特殊环境应用薄膜
兼容 DC / RF 磁控溅射、反应溅射、共溅射 等多种沉积工艺。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 减少薄膜缺陷,提高稳定性 |
| 成分比例 | 可定制(Zr/W) | 调整硬度、耐蚀性、耐高温性能 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配各种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响沉积速率与靶材寿命 |
| 致密度 | ≥95–98% TD | 提升薄膜均匀性与机械稳定性 |
| 背板 | Cu / Ti / In 焊 | 改善散热与抗弯性能 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| ZrW | 高耐蚀 + 高熔点 + 结构稳定 | 高温薄膜、防护膜 |
| W(钨靶材) | 超高熔点 | 耐热薄膜、硬质膜 |
| Zr(锆靶材) | 强耐蚀性 | 航空与化工薄膜 |
| ZrN / ZrC | 超硬薄膜 | 工具与耐磨应用 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| ZrW 靶材适合 RF 还是 DC? | 金属类合金,可使用 DC,也可 RF。 |
| 是否可定制不同 Zr/W 比例? | 可以,10–90% 任意比例可定制。 |
| 会不会易裂? | 经 HIP / 高致密度处理后强韧性高,不易开裂。 |
| 是否适合反应溅射? | 在 Ar/O₂ 或 Ar/N₂ 中均可稳定运行。 |
| 是否需要背板? | 大尺寸靶材推荐 Cu 或 Ti 背板以提高散热。 |
| 可否用于共溅射? | 可与 Zr、W、Ti、Ta 等靶材共溅射。 |
每片锆钨靶材均经过严格检验,并采用:
真空密封包装
多层防震泡沫保护
出口级硬纸箱或木箱运输
唯一批次编号标识
确保靶材于运输储存过程中的洁净与安全。
锆钨靶材(ZrW)是一类兼具高温强度、耐腐蚀性与优异溅射稳定性的难熔合金靶材,在高端制造、航空航天、微电子和防护涂层领域具有广泛应用价值。苏州科跃材料科技有限公司提供不同配比、尺寸及背板方案,可满足科研与工业薄膜制备的全方位需求。
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📩 sales@keyuematerials.com
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