锆蒸发材料（Zr）

产品简介（Introduction）

锆（Zirconium，Zr）是一种重要的过渡金属材料，具有优异的耐腐蚀性、良好的高温稳定性、较强的吸气能力以及出色的化学惰性。在真空与薄膜沉积领域，锆蒸发材料被广泛用于金属薄膜、反应性化合物薄膜及真空吸气应用，是科研与工业真空系统中的关键基础材料之一。

在热蒸发、电子束蒸发（E-beam Evaporation）及反应蒸发工艺中，锆能够形成致密、附着力强、稳定性高的薄膜，广泛应用于光学镀膜、半导体制造、功能涂层及高端科研实验。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度锆蒸发材料，采用真空熔炼、精密加工与严格杂质控制工艺，确保材料在蒸发过程中具有稳定的蒸发速率、低杂质释放及良好的膜层一致性。

可提供形式

• 锆颗粒（Zr Pellets / Granules）

• 锆片 / 锆块（Zr Pieces / Chunks）

• 锆丝（Zr Wire）

• 锆蒸发棒（Zr Rods）

• 定制形态（按蒸发源或坩埚匹配）

典型规格

• 纯度等级：99.5% / 99.9% / 99.99%

• 粒径范围：1–3 mm / 3–6 mm / 定制

• 丝径范围：Ø0.5–2.0 mm

• 表面状态：清洁、无油、低氧化

• 包装方式：真空密封或惰性气体保护

材料特点

• 高熔点（≈1855 °C），适合高温蒸发

• 良好的吸气能力，可降低真空系统残余气体

• 蒸发稳定，膜层致密

• 膜层附着力强、耐腐蚀性好

• 适合金属膜与反应性化合物膜制备

应用领域（Applications）

1. 真空蒸发与薄膜沉积

锆蒸发材料广泛用于：

• 金属锆薄膜沉积

• 反应蒸发制备 ZrO₂、ZrN 等薄膜

• 电子束蒸发与热蒸发工艺

2. 光学镀膜

• 光学保护层

• 高折射率或功能过渡层

• 多层光学膜结构中的金属层

3. 半导体与微电子

• 阻挡层

• 功能金属层

• 器件界面工程

4. 真空吸气与残气控制

锆具有良好的吸气性能，可用于：

• 真空系统吸气材料

• 超高真空（UHV）环境改善

5. 科研与功能材料研究

• 新型功能薄膜

• 高温材料研究

• 表面工程与材料物性实验

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封或惰性气体保护包装

• 内部防震、防污染处理

• 外层出口级包装

• 提供材质证明与纯度检测报告

确保材料在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性。

结论（Conclusion）

锆蒸发材料（Zr）凭借其优异的耐腐蚀性、高温稳定性及良好的蒸发与吸气特性，在薄膜沉积、光学镀膜、半导体制造及真空技术领域中发挥着重要作用。苏州科跃材料可提供多形态、高纯度的锆蒸发材料，满足科研与工业应用的多样化需求。

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