锆粉(Zr)

描述


锆粉(Zr)

产品简介

锆粉(Zirconium Powder,化学式 Zr)是一种具有 高熔点、高延展性与优异耐腐蚀性 的稀有金属粉末。
其显著特征包括 极低的热中子吸收截面、高导热性与优良化学稳定性,因此在 核能、化学工程、真空冶金与合金制造 领域中具有极高价值。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度(99.5%–99.99%)锆粉,形貌均匀、氧含量低、流动性优,适用于科研及工业生产。


产品详情

锆粉呈 灰色至银灰色金属粉末,采用 氢化脱氢法(HDH)或气雾化法 制备。
具有极高的耐蚀性与热稳定性,可在真空、高温及强腐蚀环境下保持稳定。

主要特点:

  • 高熔点(1852°C)与优异热稳定性

  • 高纯低氧,适合真空及高温工艺

  • 低中子吸收截面,适用于核工业

  • 良好的塑性与导热性

  • 可用于粉末冶金与化学催化。


应用领域

  • ⚙️ 粉末冶金与合金制造:用于Zr合金、ZrTi合金与耐蚀部件;

  • ⚛️ 核能工业:用于核反应堆包壳管、结构件与吸热材料;

  • ⚗️ 化工设备:用于强酸碱反应器与换热器材料;

  • 💡 真空冶金与镀膜:用于高真空吸气剂与溅射靶材;

  • 🧪 科研实验与高温材料:用于高纯金属与陶瓷复合体系研究。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Zr 高熔点稀有金属粉
纯度 99.5% – 99.99% 高纯科研级
外观 灰色金属粉末 均匀细腻
粒径范围 1 – 45 μm(可定制) 影响烧结与反应性能
制备方法 HDH / 雾化 氧含量低、颗粒均匀
密度 6.52 g/cm³ 高密度金属
熔点 1852°C 耐高温性能优
电导率 2.3×10⁶ S/m 导电性稳定
热导率 22.7 W/m·K 热传导良好
氧含量 <0.1% 适合真空冶金应用

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Zr(锆) 耐腐蚀、低中子吸收 核能、化工设备
Hf(铪) 高温强度高 超高温材料
Ti(钛) 轻质耐蚀 航空、医疗
Nb(铌) 超导、耐热 电极、真空部件

常见问题(FAQ)

问题 答案
锆粉的主要用途是什么? 用于核能、合金、真空吸气剂与涂层。
是否具有磁性? 无磁性,适用于电子与核领域。
是否易氧化? 易与空气反应,需惰性或真空储存。
熔点是多少? 约1852°C。
是否可用于3D打印? 可提供球形雾化锆粉。
是否可用于化学反应? 可,用于催化与吸气材料。
是否可定制粒径? 可提供1–100 μm不同规格。
是否环保? 无毒可回收,符合RoHS与REACH。
是否适合真空应用? 是,具有高真空兼容性。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有锆粉出厂前均经过 ICP 杂质检测、O/N 含量测试与粒度分析
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋包装,防止氧化与吸湿。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,支持科研与工业批量交付。


结论

锆粉以其 高温稳定性、耐腐蚀性与核能兼容性,被广泛应用于高端制造与科研领域。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多种纯度与粒径的高性能锆粉,适合科研、核能与真空应用。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.