锆管(Zr)

高纯锆管具有优异的耐腐蚀性与高温性能,适用于核能反应堆、真空系统、化工设备及薄膜沉积装置。纯度可达99.95%,结构致密、表面光洁,可按客户需求定制尺寸与表面处理。

描述

锆管(Zr Tube)

产品简介

锆管(Zr Tube)是一种由高纯锆(Purity ≥ 99.9%)制成的高性能难熔金属管材,具有优异的耐腐蚀性、高熔点(1855°C)、低中子吸收截面及极低的气体释放率。锆金属在酸、碱及高温水蒸气中都表现出极强的化学稳定性,因此被广泛应用于核反应堆、真空系统、化工设备及薄膜沉积领域。高纯锆管也是半导体、光学镀膜及科研实验中的关键材料之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的锆管采用高纯锆锭或锆粉经真空熔炼—热挤压—冷拉—真空退火—抛光工艺制备,晶粒细小、结构致密、表面光滑。产品符合 ASTM B550 / R60702 / R60705 / R60704 标准,可提供工业级、电子级与核级版本。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.95%(可选核级Zr702、Zr705)

  • 外径范围:3 – 80 mm

  • 壁厚范围:0.3 – 5 mm

  • 长度:≤2000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 冷拉 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色金属光泽 / 抛光 / 酸洗 / 去氧化膜

高纯锆管具有极低的氢吸收率与中子吸收截面,非常适合核能、真空及高温系统的关键部件。

应用领域

锆管广泛应用于以下领域:

  • 核能工业:用于燃料包壳、反应堆冷却系统与中子吸收控制部件。

  • 真空系统与电子工业:作为真空导管、支撑结构或高温反应管。

  • 化工设备:用于强酸、氯化物、氟化介质及海水环境中的耐蚀管道。

  • 半导体与薄膜沉积:用于PVD、CVD系统的导流及支撑结构。

  • 科研与实验装置:用于高纯气体输送及高温实验反应系统。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5% – 99.95% 高纯度确保稳定性与耐蚀性
密度 6.51 g/cm³ 组织致密,机械性能优良
熔点 1855 °C 高温稳定性强
抗拉强度 ≥485 MPa 强度高、延展性好
热导率 22 W/m·K 稳定导热性能
电导率 2.4 × 10⁶ S/m 良好的导电性
工艺 真空熔炼 + 精加工 提高纯度与表面光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
锆管是否可用于真空系统? 是的,锆具有极低气体释放率,非常适合超高真空系统。
是否可用于核能应用? 可以,Zr702、Zr705 等牌号专为核反应堆设计。
是否具有磁性? 无磁性,适合磁场敏感应用。
是否可定制尺寸? 可按客户图纸生产不同内外径与壁厚的管材。
是否可电抛光? 可提供镜面抛光、电解抛光或酸洗表面。
可否焊接? 可进行氩弧焊、电子束焊及真空钎焊。
可否用于腐蚀性介质? 是的,在盐酸、硫酸及氟化环境中稳定。
是否提供检测报告? 每批产品附带纯度、密度与显微组织检测报告。
是否支持小批量供货? 可提供科研样品与工业批量供应。
可否与钛、铪合金化? 可以,根据需求提供Zr-Ti、Zr-Hf等合金管。

包装与交付

每根锆管在出厂前均经过真空退火与纯度检测。产品采用真空密封、防氧化包装,外层为防震泡沫及出口级木箱。可附RoHS、REACH、COC及材料检测文件,确保运输安全。

结论

锆管(Zr Tube)以其卓越的耐腐蚀性、高温稳定性和极低中子吸收特性,被广泛用于核能、真空与高端化工设备中。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com


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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.