铽靶材(Tb)

铽靶材(Tb Sputtering Target)

产品简介

铽(Terbium, Tb)是一种具有银灰色金属光泽的稀土元素,属于镧系金属族。它在薄膜材料、磁光器件和光电子领域中具有重要应用价值。铽靶材因其优异的磁光特性与发光性能,被广泛用于磁光存储膜、发光薄膜及多功能复合材料的制备,是高性能光电薄膜系统的重要组成部分。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铽靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空熔炼与热等静压(HIP)工艺制备,组织致密、成分均匀、表面光洁度高。
可提供圆形、矩形、环形及定制形状靶材,适配直流(DC)和射频(RF)磁控溅射系统。
可选铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以增强热传导与机械强度。

技术特点

  • 高纯度稀土金属,杂质含量低;

  • 致密结构,溅射速率均匀稳定;

  • 优异的磁光响应特性;

  • 可进行多种规格与尺寸定制;

  • 支持复合靶或掺杂薄膜制备。

应用领域

  • 磁光存储:用于磁光盘及信息存储层薄膜制备;

  • 光电子器件:用于光学调制膜、滤光膜及显示膜层;

  • 发光材料:用于LED与荧光薄膜,提高发光效率;

  • 能源与功能材料:用于光电转换膜与传感薄膜;

  • 科研实验:用于掺杂薄膜与新型磁光复合膜研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 稀土纯度高,薄膜性能更稳定
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射设备
厚度 3 – 6 mm 影响溅射速率与膜层厚度
密度 ≥ 8.2 g/cm³ 致密性高,沉积速率稳定
背板结合 Cu / Ti / In 焊 增强散热与结构稳定性
制备工艺 真空熔炼 + HIP 组织均匀、气孔少、性能优良

常见问题(FAQ)

问题 答案
铽靶材可用于哪些溅射系统? 兼容直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。
铽靶材形成的薄膜有哪些特性? 具有优异的磁光响应与发光性能,可用于光电子器件。
是否可与其他材料共溅射? 可以,与Fe、Co、Gd、Dy等共溅射可形成磁光复合膜。
是否易氧化? 是,铽表面易氧化,建议在真空或惰性气氛中保存。
可否提供背板焊接? 可选Cu、Ti或In焊接以提高热传导与机械强度。
是否支持定制? 可提供Ø25–Ø300 mm等多种尺寸及形状定制。
在科研中常见用途是什么? 用于TbFeCo、TbDyFe等磁光材料研究。
包装方式? 真空密封、防震泡沫与防潮包装,确保洁净运输。

结论

铽靶材凭借其独特的磁光与发光特性,在光电子与功能薄膜领域具有广泛应用潜力。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铽靶材,满足科研及高端制造客户对稀土靶材的精密要求,确保高稳定性与优异薄膜性能。

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📧 sales@keyuematerials.com