铼丝(Re)

高纯铼丝具有极高的熔点(3180°C)与优异的高温稳定性,适用于热电偶、电极与真空加热系统。纯度达99.99%,结构致密、延展性强,可定制规格与包装。

描述

铼丝(Re Wire)

产品简介

铼丝(Re Wire)是一种由高纯铼(Purity ≥ 99.95%)制成的稀有高熔点金属丝材,以其极高的熔点(3180°C)优异的力学强度出色的抗蠕变性能而闻名。铼丝在高温环境中仍能保持稳定的结构和电性能,因此被广泛应用于高温电极、热电偶、真空炉部件及航空航天发动机等领域。
其独特的高密度与抗氧化特性,使其成为极端环境下理想的导体材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铼丝采用真空熔炼—热锻—精密拉丝—退火—表面抛光工艺制造。产品晶粒细致、组织均匀、延展性优良,并在高温下具有出色的结构稳定性。所有产品均符合 ASTM B776 与 ISO 9001 标准。

典型规格:

  • 纯度等级:99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 2.0 mm(可定制)

  • 形态:盘丝 / 直丝 / 卷丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密热拉 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:金属灰色光泽 / 光滑无裂纹 / 无氧化层

高纯铼丝具有优良的导电性、抗蠕变性能和极高的延展性,能够在高温和真空条件下长期稳定工作。

应用领域

铼丝广泛应用于需要耐高温、高应力的关键领域:

  • 高温电极与热电偶:用于铼-钨(WRe)系列热电偶与加热元件。

  • 真空与高温炉系统:用于加热元件、引线及结构支撑。

  • 航空航天:用于火箭喷嘴、燃烧室与发动机内衬。

  • 电子与真空器件:用作灯丝、电极与栅极线材。

  • 科研实验:用于极端温度和高负载条件下的金属材料研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.95% – 99.99% 高纯度确保电学与热学稳定性
密度 21.02 g/cm³ 极高密度保证致密结构
熔点 3180 °C 金属中仅次于钨
电阻率 19.3 × 10⁻⁸ Ω·m 稳定导电性能
热导率 48 W/m·K 良好导热性
抗蠕变性能 极佳 适合长期高温使用
延展性 可制成细丝、线圈或电极结构

常见问题(FAQ)

问题 答案
铼丝可在多高温度下使用? 可在高达 2500°C 的真空或惰性气氛中长期使用。
是否适合用作热电偶? 是的,常用于 W-5Re/W-26Re 系列高温热电偶。
铼丝是否具磁性? 无磁性。
可否用于真空环境? 完全适合真空和惰性气氛下使用。
是否具良好延展性? 是的,可轻松加工成卷丝或细线。
是否容易氧化? 在空气中高温易氧化,建议真空或惰性气体环境使用。
是否支持定制直径? 可提供 0.05–2.0 mm 各种线径。
是否提供检测报告? 每批产品均附纯度、尺寸及性能报告。
是否符合RoHS/REACH? 是的,完全符合国际环保标准。
交货周期? 常规规格2–3周交付。

包装与交付

所有铼丝出厂前均经真空退火与纯度检测。产品采用真空密封、防氧化包装,并装入防震泡沫及出口级木箱,确保运输安全。附RoHS、REACH、COC及材质检测报告。

结论

铼丝(Re Wire)凭借其极高的熔点、优异的延展性及出色的高温稳定性,广泛应用于航空航天、真空系统及高温测温领域。它是高温合金与高性能电子元件中不可替代的关键材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.