银粉(Ag)

描述

银粉(Ag)

产品简介

银粉(Silver Powder,化学式 Ag)是一种具有 高导电性、高导热性与优异反射性能 的贵金属粉末。
凭借其出色的化学稳定性与延展性,银粉被广泛应用于 导电浆料、银浆电极、焊料、导电胶、抗菌材料与光学镀膜 等高端领域。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度银粉(99.9%–99.99%),颗粒分布均匀,可选 球形、片状与树枝状结构,适用于 电子封装、薄膜沉积与功能涂层


产品详情

银粉为 亮白色或灰白色金属粉末,采用 化学还原法、气雾化法或电解法 制备。
其形貌可根据不同工艺需求定制,具有高比表面积与优异分散性。

主要特点:

  • 超高导电性与导热性(位居金属首位)

  • 化学稳定性强,不易氧化

  • 优异可焊性与延展性

  • 粒径可控(纳米至微米级)

  • 适用于高精度导电与光学材料。


应用领域

  • ⚙️ 电子导电材料:用于导电浆料、电极银浆、触点与电刷;

  • 🔋 太阳能与电池领域:用于太阳能电池背电极、导电涂层;

  • 💡 光学镀膜与反射层:用于反射镜、滤光片、红外器件;

  • 🧪 科研与纳米材料:用于银纳米线、抗菌涂层与传感器研究;

  • 🧷 焊接与粘接材料:用于高导热导电焊料与银胶。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Ag 贵金属导电材料
纯度 99.9% – 99.99% 高导电级纯度
外观 亮白色 / 灰白色粉末 高纯金属特征
颗粒形貌 球形 / 片状 / 树枝状 可定制结构
平均粒径 0.1 – 10 μm(可提供纳米级 <100 nm) 影响导电性与分散性
密度 10.49 g/cm³ 高导电金属
熔点 961.8°C 加工性能优
电导率 6.3×10⁷ S/m 金属中最高
热导率 429 W/m·K 热传导效率高
比表面积 0.1 – 5 m²/g 纳米粉更高

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Ag(银) 导电性最高、化学稳定 导电浆料、银电极
Cu(铜) 成本低、导电性次之 导线与涂层
Au(金) 稳定性强、成本高 光电与装饰镀层
Pt(铂) 耐腐蚀、催化性强 电极与传感器

常见问题(FAQ)

问题 答案
银粉有哪些形态? 球形、片状、树枝状与纳米级粉体。
是否导电? 是的,银为所有金属中导电性最强。
是否可用于电子浆料? 可,用于银浆、电极与导电胶配方。
是否可定制粒径? 可提供 100 nm–10 μm 范围粉体。
是否易氧化? 稳定性高,但建议干燥密封保存。
是否可用于光学镀膜? 是,具高反射率(>97%)。
是否环保? 无毒、可回收,符合 RoHS 与 REACH 要求。
是否可用于纳米银线合成? 可作为原料使用。
熔点是多少? 961.8°C。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有银粉出厂前均经过 ICP 成分检测、XRD 晶相分析与粒径分布测试
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋 包装,确保粉体洁净稳定。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,支持科研与工业级批量交付。


结论

银粉以其 卓越的导电、导热与反射性能,成为电子、光学与新能源行业不可或缺的高端功能材料。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、多形貌银粉,适用于导电浆料、镀膜与科研用途。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.