银丝(Ag)

高纯银丝(Ag Wire)具有极高导电性与光学反射率,适用于电子、电极、真空镀膜与科研实验。纯度可达99.999%,表面光洁亮白,支持定制规格与包装。

描述

银丝(Ag Wire)

产品简介

银丝(Ag Wire)是一种由高纯银(Purity ≥ 99.99%)制成的柔性金属丝材,以其卓越的导电性、导热性与反射性著称,是所有金属中导电性能最优者。
高纯银丝广泛用于电子制造、真空蒸发、焊接、电极、导线和光学反射层等高精密应用领域。凭借其低电阻率与优雅银白外观,成为科研与工业生产中的理想材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯银丝采用真空熔炼—精密拉丝—退火—表面净化工艺制备,确保极高纯度与光亮表面。产品符合 ASTM B298、ISO 9001 标准,可提供多种直径与包装形式。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.05 – 5.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 拉丝 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:亮银白 / 光洁 / 无氧化层

高纯银丝在高导电与高反射应用中表现突出,可用于高频信号、电接触、真空蒸发及科研实验。

应用领域

银丝在多个行业与科研领域中广泛使用:

  • 电子与电气工程:用于导电线、焊接线与接触点。

  • 真空蒸发与光学镀膜:作为高反射蒸发源材料。

  • 电极与传感器:用于电化学实验和检测设备。

  • 半导体与微电子:用于引线键合与电极制造。

  • 科学研究与实验设备:用于高导电实验与热导研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度降低电阻与杂质影响
密度 10.49 g/cm³ 均匀致密结构
熔点 961.8 °C 稳定导电材料
电导率 62.1 × 10⁶ S/m 金属中最高导电率
热导率 429 W/m·K 优异导热性能
反射率 >95%(可见光) 高光学反射性
抗腐蚀性 稳定耐氧化环境

常见问题(FAQ)

问题 答案
银丝导电性能如何? 银是导电性最强的金属,适合高精度电气应用。
是否适合真空蒸发? 是的,银丝广泛用作真空蒸发源材料。
是否具磁性? 无磁性。
是否容易氧化? 表面形成微薄氧化层但不影响性能。
是否可定制直径? 支持0.05–5.0 mm范围定制。
是否可抛光? 可提供镜面光亮表面。
是否符合RoHS标准? 是的,符合RoHS与REACH要求。
是否支持科研样品? 支持科研小批量与工业大批量。
可否作为焊接材料? 可用于精密焊接与电接触。
交货周期? 常规2–3周交付。

包装与交付

银丝出厂前均经纯度与尺寸检测,采用真空密封、防氧化、防潮包装。卷盘外层配防震泡沫与出口级木箱。提供RoHS、REACH、COC及材质检测报告。

结论

银丝(Ag Wire)以其优异的导电性与光学反射性能,广泛应用于电子、真空镀膜和科研领域,是高端电气与材料科学研究中不可替代的金属线材。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.