铱丝(Ir)

高纯铱丝(Ir Wire)具有极高熔点与优异耐腐蚀性,适用于高温电极、真空蒸发与电化学领域。纯度可达99.99%,表面光洁致密,可定制线径与长度。

描述

铱丝(Ir Wire)

产品简介

铱丝(Ir Wire)是一种由高纯铱(Purity ≥ 99.9%)制成的贵金属丝材,以其极高的熔点(2446°C)、出色的抗氧化性与耐腐蚀性能而闻名。铱具有优异的化学惰性,在高温、强酸或氧化性环境中仍能保持结构稳定。
高纯铱丝常用于高温电极、热电偶、真空蒸发源、燃料电池、半导体工艺与科研实验等领域,是贵金属线材中的顶级材料之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铱丝采用真空熔炼—热锻—冷拉—退火—精抛光工艺制备,组织致密、延展性好、表面光洁无裂纹。所有产品均符合 ASTM B684 与 ISO 9001 标准,可提供电子级或科研级纯度。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 2.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银白色金属光泽 / 抛光 / 无氧化膜

高纯铱丝具有极高的机械强度与化学稳定性,适合苛刻环境下的长期使用。

应用领域

铱丝以其卓越的性能,广泛应用于:

  • 高温电极与热电偶:与铂或铑配合使用,耐极端温度。

  • 真空与薄膜沉积系统:作为高纯蒸发源或溅射靶线。

  • 燃料电池与电化学:用于阳极/阴极反应电极材料。

  • 半导体与光电器件:用于电接触材料及薄膜制备。

  • 科研实验与分析仪器:用于高温实验与贵金属分析设备。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度确保电学与化学稳定性
密度 22.56 g/cm³ 极高密度,结构致密
熔点 2446 °C 贵金属中最高之一
电导率 18 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 147 W/m·K 优异导热性能
硬度 耐磨损、耐冲击
抗腐蚀性 极优 对酸碱与氧化环境稳定

常见问题(FAQ)

问题 答案
铱丝是否可用于高温环境? 可以,在2000°C以上依然稳定。
是否适合真空蒸发? 是的,常用作高纯金属蒸发源。
是否具磁性? 无磁性。
是否可电抛光? 可提供镜面或抛光表面。
是否可用于电极? 是的,广泛用于燃料电池与热电偶电极。
是否支持小直径? 可提供最细0.05 mm规格。
是否提供检测报告? 每批产品附纯度、密度与尺寸检测报告。
可否定制长度? 支持定制长度与卷盘包装。
是否支持科研小量? 是的,支持小批量供货。
是否符合RoHS/REACH? 完全符合。

包装与交付

所有铱丝出厂前均经纯度、密度与显微检测。产品采用真空密封、防氧化包装,并放置于防震、防潮线盘中。附RoHS、REACH、COC及贵金属成分检测文件,确保运输安全。

结论

铱丝(Ir Wire)以其超高熔点、极强耐腐蚀性和化学稳定性,在高温电极、真空系统及电化学研究中具有不可替代的地位。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.