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铬钼靶材（CrMo）由铬（Cr）与钼（Mo）组成，是一种兼具高耐腐蚀性、优异热稳定性、机械强度强与电学性能稳定的高性能合金靶材。铬提供优异的耐腐蚀性和附着能力，而钼作为高熔点金属，能显著提升薄膜的耐高温性、硬度与结构稳定性，使 CrMo 薄膜成为工程保护膜、电子功能膜和光学结构层中的关键材料。
CrMo 是一种适用于要求耐热性、结构致密、高附着力与化学稳定性的薄膜应用的优质溅射靶材。
CrMo 靶材采用高纯金属粉末，通过混粉、球磨、CIP 冷等静压、真空烧结或 HIP 热等静压制备，致密度可达到 95–99% TD，从而减少颗粒、提升薄膜一致性和溅射稳定性。
纯度（Purity）：99.9% – 99.99%
常见成分比例（Composition）：
Cr90Mo10
Cr80Mo20
Cr70Mo30
支持任意 Cr/Mo 比例定制
直径（Diameter）：Ø25–300 mm
厚度（Thickness）：3–6 mm（可提供薄靶）
致密度（Density）：≥95–99% TD
制造工艺（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP
背板（Bonding）：Cu / Ti / In Bonding
显著提升耐高温能力（Mo 的贡献）
高附着性和抗腐蚀性（Cr 的贡献）
良好的膜层硬度与结构密度
电性稳定，适用于多种设备
支持反应性溅射（CrMo-N / CrMo-O 薄膜）
薄膜应力可控、均匀性好
扩散阻挡层
功能金属化结构层
粘附层（Adhesion Layer）
高温稳定金属膜层
耐高温结构薄膜
耐磨保护层
抗腐蚀工程膜
光学耐腐蚀金属层
工程结构层
多层膜中的缓冲、中间层
功能性金属薄膜
高温保护层
传感器功能膜
CrMo 合金体系结构研究
热稳定复合膜研究
氮化 / 氧化 CrMo 功能薄膜
| 参数 | 范围 / 数值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 膜层稳定、低缺陷 |
| Cr/Mo 比例 | 可定制 | 调节耐热性、硬度、电性 |
| 致密度 | ≥95–99% TD | 减少颗粒、提升均匀性 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响靶材寿命与溅射速率 |
| 背板 | Cu / Ti / Indium | 提升散热与抗裂性 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CrMo | 耐高温 + 耐腐蚀 + 结构强度高 | 工程膜、半导体、光学结构层 |
| Cr（铬） | 耐腐蚀、附着性强 | 粘附层 |
| Mo（钼） | 高熔点、高硬度 | 高温器件膜层 |
| CrTi | 轻质、附着性更强 | 功能结构膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrMo 是否适合高温环境？ | 是，Mo 的加入提供 excellent 热稳定性。 |
| 是否支持 RF 溅射？ | 支持 DC / RF 磁控溅射。 |
| Cr/Mo 比例是否可定制？ | 任何比例均可按工艺需求定制。 |
| 是否可提供矩形靶材？ | 支持定制任何尺寸与形状。 |
| CrMo 薄膜颗粒率如何？ | 高致密度靶材颗粒率极低。 |
| 是否能用于反应性溅射？ | 能形成 CrMo-N、CrMo-O、CrMo-OxNy 等薄膜。 |
真空密封防氧化
干燥剂防潮
多层缓冲防震
出口级木箱/硬盒包装
唯一批号 & 可追溯检测报告
铬钼靶材（CrMo）以其耐高温、耐腐蚀、高机械强度与稳定成膜性能，在半导体、光学膜层、高温电子器件和工程保护膜等领域表现出优异性能。苏州科跃材料科技有限公司可提供多种纯度、成分比例、尺寸与背板的 CrMo 高纯溅射靶材，为科研与工业应用提供可靠支持。
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