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铬钼蒸发材料通常选用高纯铬与高纯钼为原料，通过真空熔炼或合金化烧结工艺制备，确保合金成分均匀、组织致密、杂质含量严格受控。
纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N），满足科研及工业级薄膜沉积需求
合金比例：Cr/Mo 比例可按质量比或原子比定制，用于调节薄膜的耐蚀性、应力状态与高温稳定性
高温稳定性：钼元素显著提高薄膜在高温沉积与后处理过程中的结构稳定性
环境耐受性：铬元素在膜层表面形成稳定钝化层，增强抗氧化与耐腐蚀能力
供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源
通过合理的成分与工艺设计，CrMo 蒸发材料可获得致密、均匀、附着力良好且耐高温的合金薄膜。
铬钼蒸发材料在多个高端薄膜沉积与功能涂层领域中具有典型应用，包括：
半导体薄膜沉积：高温过渡层、功能金属层
微电子与集成电路：结构稳定金属薄膜、界面调控层
耐高温与耐腐蚀涂层：防护薄膜、表面工程
光学与功能镀膜：金属反射层、功能中间层
科研与实验室应用：高温合金薄膜、结构与应力演化研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 合金成分 | Cr–Mo（比例可定制） | 决定高温与耐环境性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜可靠性与缺陷水平 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 尺寸范围 | 1 – 10 mm（颗粒）或定制 | 影响蒸发速率与均匀性 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流真空系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铬钼蒸发材料（CrMo） | 高温稳定、耐蚀性强 | 高温与功能薄膜 |
| 纯铬（Cr） | 抗氧化、耐腐蚀 | 防护与装饰薄膜 |
| 纯钼（Mo） | 高熔点、低蒸汽压 | 高温结构薄膜 |
| 铬钛（CrTi） | 附着力优异 | 粘附与过渡层 |
Q1：CrMo 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发工艺，尤其适合高温薄膜制备。
Q2：CrMo 薄膜的主要优势是什么？
A：具有优异的高温稳定性、抗氧化能力和结构可靠性。
Q3：合金比例可以定制吗？
A：可以，根据高温性能、应力控制或耐蚀性需求定制 Cr/Mo 比例。
Q4：是否适合高功率电子束蒸发？
A：适合，钼的高熔点使其在高功率条件下表现稳定。
Q5：膜层附着力如何？
A：对硅、玻璃、氧化物及多种金属基底具有良好附着性能。
Q6：是否可用于多层或复合薄膜结构？
A：可以，常作为高温功能层或过渡层使用。
Q7：与纯钼薄膜相比有何不同？
A：CrMo 在保持高温稳定性的同时，提高了耐腐蚀与环境适应性。
Q8：科研应用中常见用途有哪些？
A：高温合金薄膜、界面稳定性及应力控制研究。
所有铬钼蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装，配合防震缓冲材料与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铬钼蒸发材料（CrMo）通过将钼的高温结构稳定性与铬的耐腐蚀、抗氧化特性相结合，为高温与高可靠性薄膜应用提供了一种性能均衡、工艺成熟且长期稳定的合金蒸发材料解决方案。对于需要在苛刻环境下保持薄膜性能一致性的真空蒸发应用，CrMo 是一种值得信赖的工程级材料选择。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com
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