铬管(Cr)

高纯铬管由99.9%铬制成,具有高硬度、抗氧化与耐腐蚀特性。适用于真空系统、高温加热设备、光学镀膜及科研实验,结构致密、表面光洁,可定制多种尺寸与精度等级。

描述

铬管(Cr Tube)

产品简介

铬管(Cr Tube)是一种由高纯铬(Purity ≥ 99.9%)制成的难熔金属管材,具有极高的硬度、优异的耐腐蚀性与良好的高温氧化稳定性。铬金属在空气中能形成致密的氧化铬膜,有效保护基体免受进一步氧化或腐蚀,因此广泛应用于真空系统、光学镀膜、高温加热设备及科研实验中。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的铬管采用高纯铬粉经真空烧结—热等静压(HIP)—机械加工制备,晶粒细小、结构致密、表面光滑无裂纹。产品具有优异的抗氧化性能和高温强度,适用于严苛环境下的结构与导流部件。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.95%

  • 外径范围:4 – 80 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 6 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空烧结 + HIP + 精密加工 + 抛光

  • 表面状态:亮银灰色 / 抛光态 / 去氧化膜

高纯铬管可长期在高温环境中使用,保持稳定结构与低气体释放率,适合真空及电子级设备。

应用领域

铬管在高温、真空和化学稳定性要求高的场合表现突出:

  • 真空与电子工业:用于真空腔体导管及电子元件结构。

  • 光学镀膜与溅射系统:作为高纯铬蒸发源或溅射靶材辅助管。

  • 冶金与热处理设备:用于高温反应管及热防护结构。

  • 化工与防腐系统:输送酸性或腐蚀性介质。

  • 科研实验与材料研究:用于高温氧化实验与真空热处理。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5% – 99.95% 高纯度确保真空及高温稳定性
密度 7.19 g/cm³ 组织致密,机械性能优良
熔点 1907 °C 具有高熔点和耐热性
硬度 ≥1000 HV 极高表面硬度
抗拉强度 ≥450 MPa 高温下仍具强度
热导率 94 W/m·K 稳定导热性能
工艺 真空烧结 + HIP + 精加工 提高纯度与致密度

常见问题(FAQ)

问题 答案
铬管是否会生锈? 铬表面形成的Cr₂O₃膜可防止进一步氧化,表现出极高耐蚀性。
是否可用于真空系统? 是的,具有极低气体释放率,适合真空环境。
铬管是否具有磁性? 具有弱磁性,纯度越高磁性越弱。
可否用于高温加热设备? 可在1900°C以下长期使用。
是否支持定制尺寸? 可以,根据图纸或尺寸要求精密加工。
可否用于光学镀膜系统? 是的,高纯铬常用于红外反射层与硬膜镀层。
是否提供抛光表面? 可提供机械抛光、电解抛光与镜面处理。
能否制作薄壁管? 可定制最小壁厚0.3 mm的高纯薄壁管。
是否附检测报告? 提供纯度、密度、显微组织检测报告。
交货周期? 常规尺寸2–3周,定制产品需确认加工周期。

包装与交付

所有铬管出厂前均经真空检验与纯度分析。产品采用防氧化真空密封包装,外层加防震泡沫与防潮木箱,确保运输安全。可提供RoHS、REACH及材质分析报告。

结论

铬管(Cr Tube)以其高熔点、硬度与抗腐蚀性能,成为真空、高温与光学镀膜系统的理想材料。
如需了解更多技术参数或报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

首字母

G

评价

目前还没有评价

成为第一个“铬管(Cr)” 的评价者

您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注

常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.