铬硅靶材（CrSi）

产品简介（Introduction）

铬硅靶材（CrSi）由铬（Cr）与硅（Si）组成，是一种兼具高硬度、优良耐蚀性、良好膜层附着力与电学可调性的复合金属靶材。Cr–Si 体系在耐磨薄膜、微电子工艺、阻挡层、光学镀膜及表面工程领域广泛应用，尤其在需要高致密度、高耐久性与高温稳定性的薄膜应用中表现突出。

铬赋予薄膜优异的机械强度和耐腐蚀性，硅则改善薄膜结构、调节电导率并提升耐高温性能，使 CrSi 成为一类性能稳健、用途广泛的工程级薄膜材料。

产品详情（Detailed Description）

铬硅靶材采用高纯金属粉末，经冷等静压（CIP）成型与真空烧结（Vacuum Sintering）或热压烧结（HP）工艺制备。材料经过高致密化处理，成分一致性优良、机械性能强度高，可在磁控溅射中保持长期稳定运行。

典型规格：

• 纯度（Purity）：99.9% – 99.99%

• 成分（Composition）：Cr/Si 可定制（常见如 Cr80Si20、Cr70Si30、Cr50Si50）

• 直径（Diameter）：Ø25 – Ø300 mm（支持 1″、2″、3″）

• 厚度（Thickness）：3 – 6 mm

• 工艺路线：CIP + 真空烧结 / HP

• 致密度（Density）：≥95% 理论密度（TD）

• 背板（Bonding）：可选 Cu/Ti 背板或铟焊结构

材料优势：

• 高硬度、耐磨性强

• 膜层附着力优异

• 稳定的耐蚀性能

• 电学/光学性能可调

• 低颗粒率、低 arcing

• 在高温环境下仍保持稳定成膜特性

应用领域（Applications）

CrSi 靶材因其优异的机械、电学与结构性能，广泛用于工业与科研薄膜制备：

1. 半导体与微电子（Microelectronics）

• 阻挡层（Barrier Layer）

• 粘附层（Adhesion Layer）

• 薄膜互连结构

2. 耐磨薄膜（Wear-Resistant Films）

• 工具保护涂层

• 高硬度表面涂层

• 机械零部件表面耐磨增强层

3. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 反射膜

• 介质增强结构膜

• 抗磨光学组件涂层

4. 高温应用薄膜

• 高温防护层

• 结构稳定薄膜

5. 科研与材料探索

• 稀疏介电膜

• 结构调控与应力工程

• 多层复合薄膜研究

兼容 DC / RF 磁控溅射、共溅射、反应溅射（O₂、N₂）。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

所有铬硅靶材已通过严格质检，并采用：

• 真空密封包装

• 防震泡沫保护

• 干燥密封储存

• 出口级硬箱/木箱包装

• 唯一批次追踪编码

确保运输与储存过程中的完整性与洁净度。

结论（Conclusion）

铬硅靶材（CrSi）具备优异机械性能、电学可调性与高温稳定性，是高性能耐磨薄膜、半导体阻挡层与光学涂层的核心材料。苏州科跃材料科技有限公司可根据客户需求提供不同比例、不同尺寸、不同背板结构的专业定制。

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