铬板(Cr)

铬板(Cr Plate)以其高硬度、优异的反射性能与耐腐蚀性,被广泛用于光学、电极、冶金与真空领域,是科研与工业中的关键高纯金属材料。

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描述

铬板(Chromium Plate, Cr Plate)

产品简介

铬板(Cr Plate)是一种由高纯铬(Purity ≥ 99.9%)制成的硬质金属板材,具有极高的硬度、优异的耐腐蚀性和良好的反射性能
凭借其独特的物理与化学特性,铬板被广泛用于光学镀膜、电极材料、耐磨涂层、冶金添加剂及高温结构件等领域,是功能性金属材料的重要组成。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铬板采用真空电解精炼—热等静压(HIP)—精密轧制—抛光工艺制备,板面光滑致密,纯度稳定,组织均匀。
产品符合 ASTM B773 / GB/T 15007 / ISO 9001 标准,可提供科研级与工业级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 厚度范围:0.2 – 10 mm

  • 尺寸范围:≤ 300 × 300 mm

  • 制造工艺:真空熔炼 + 电解提纯 + 热轧 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 光亮抛光 / 无氧化层


性能特点

  • 高硬度(HV 1200以上):具极高的耐磨性和抗压强度。

  • 强抗腐蚀性:在酸碱及高温气氛中稳定。

  • 优异反射性能:对可见光与红外光有较高反射率。

  • 高熔点(1907 °C):适合高温应用。

  • 真空兼容性好:低放气率,适用于镀膜设备。


应用领域

  • 光学镀膜:反射镜、滤光片及红外反射膜基材。

  • 电极与导电层:电镀阴极、电接触片。

  • 耐磨涂层:工具、模具及精密机械表面强化。

  • 冶金与合金制造:不锈钢与高温合金的关键添加剂。

  • 科研实验:溅射靶材、蒸发源与真空组件。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.99% 高纯金属铬
密度 7.19 g/cm³ 致密金属结构
熔点 1907 °C 高温稳定性强
电导率 7.9 × 10⁶ S/m 稳定导电性能
热导率 94 W/m·K 优良导热性
硬度 HV 1200–1400 极高表面硬度
抗拉强度 350–500 MPa 强韧平衡
延展性 可冷加工
反射率 ≥ 65%(可见光) 光学性能良好

常见问题(FAQ)

问题 答案
铬板是否易氧化? 在空气中形成致密氧化膜,防止进一步氧化。
是否具磁性? 弱磁性。
是否可用于光学镀膜? 是的,常用于反射层与中间层。
是否可焊接? 需使用真空或惰性气氛焊接。
是否适合真空环境? 可在高真空系统中长期使用。
是否附检测报告? 提供化学成分与纯度分析报告。
是否支持定制? 支持厚度、尺寸与表面处理定制。
是否符合RoHS/REACH? 是,符合国际环保标准。

包装与交付

所有铬板出厂前均经纯度检测与表面检验,采用真空密封、防潮防氧化包装,外层使用出口级木箱。
提供 COC、RoHS/REACH 文件及检测报告

其他信息

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G

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.