铪靶材（Hf Sputtering Target）

产品简介

铪（Hafnium, Hf）是一种高熔点（2227 °C）、高密度且具优良抗腐蚀性能的过渡金属，广泛用于半导体、光学镀膜和核能领域。铪靶材凭借其高纯度、良好的成膜性能及化学稳定性，在薄膜电介质、高k栅介质层及反射膜制备中发挥关键作用。其生成的HfO₂薄膜具有高介电常数、优异热稳定性与低漏电特性，是先进逻辑器件与功率电子中的核心材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铪靶材（纯度99.95%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制备，组织致密、晶粒细小、表面光洁度高。
产品可制成圆形、矩形或异形靶材，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
可根据需求提供铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以提高散热性能与机械稳定性。

技术特点

• 高纯度（4N级），薄膜缺陷率低；

• 致密结构，溅射均匀性优良；

• 耐高温、抗氧化性能出色；

• 适用于高k介电膜与光学反射层制备；

• 可定制不同尺寸与厚度规格。

应用领域

• 半导体器件：用于高k栅介质膜（HfO₂）；

• 光学镀膜：用于高折射率膜层及反射保护膜；

• 能源材料：用于耐高温防护膜及燃料电池部件；

• 航空航天：用于热防护与电极材料；

• 科研实验：用于HfO₂、HfN、HfC等功能薄膜制备研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

铪靶材凭借其高纯度、耐高温与优异介电性能，是半导体与光学领域中极具价值的溅射材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高致密度铪靶材及专业背板结合服务，确保薄膜沉积稳定、性能可靠，为先进材料研发与制造提供理想解决方案。

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📧 sales@keyuematerials.com