铪钽合金管(HfTa)

铪钽合金管由高纯铪与钽组成,兼具高温强度、耐氧化与耐腐蚀性能。适用于真空系统、核能装置、高温反应腔及航天部件,可定制尺寸与表面处理,用于极端环境下的精密导管或结构件。

描述

铪钽合金管(HfTa Tube)

产品简介

铪钽合金管(HfTa Tube)是一种由高纯铪(Hf)与钽(Ta)按特定比例制成的高熔点难熔金属合金管材,兼具优异的高温强度、抗氧化性能和化学稳定性。铪元素的加入显著提高了钽的抗氧化性与抗蠕变能力,使该材料在极端温度和腐蚀环境下依然保持稳定结构与导电性能。
该合金广泛用于航空航天、真空镀膜、核能工程及高温反应装置中,是高端科研与工业应用的理想耐高温管材。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的铪钽合金管采用高纯铪(≥99.9%)与钽(≥99.95%)为原料,经真空电弧熔炼(VAR)与**热等静压(HIP)**技术制备而成。产品内部组织致密,晶粒细小,机械性能与热稳定性兼优。

典型参数如下:

  • 合金成分(wt%):Ta 70–90%,Hf 10–30%(可定制)

  • 外径范围:5 – 60 mm

  • 壁厚:0.5 – 6 mm

  • 长度:≤800 mm(可定制)

  • 纯度等级:≥99.9%(元素纯度)

  • 制造工艺:真空熔炼 + HIP 致密化 + 精密加工 + 抛光处理

经特殊退火与表面处理的 HfTa 管具备优异的抗氧化性能,能在高温 (>2000°C) 条件下长期工作。

应用领域

铪钽合金管凭借其优异的高温化学稳定性与机械强度,广泛应用于:

  • 航空航天与发动机部件:用于高温推进系统及防热结构。

  • 核能与真空工程:作为冷却管、热交换管或反应腔体。

  • 电子与半导体工业:用于高温电极管、离子源和溅射部件。

  • 化学反应装置:适用于强腐蚀性气体或液体介质环境。

  • 高温冶金与实验设备:用于极端温度下的保护与导流结构。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
成分 Ta 70–90%,Hf 10–30% 可根据热稳定性与强度需求调整
密度 14.0 – 15.5 g/cm³ 高密度、低孔隙率结构
熔点 2850 – 3000 °C 极高耐热性能
抗拉强度 ≥950 MPa 高温下保持良好强度
硬度 280 – 350 HV 兼顾加工性与耐磨性
热导率 45 – 60 W/m·K 稳定热传导特性
工艺 VAR + HIP + 精密加工 获得高纯致密管材

常见问题(FAQ)

问题 答案
铪钽合金与纯钽相比的优势是什么? Hf 的加入显著增强了抗氧化性与高温强度,使材料在>2000°C下更稳定。
是否可用于真空设备? 是的,HfTa 管具有极低的气体释放率,非常适用于真空系统。
可否根据图纸定制? 可以,支持特殊尺寸、孔径、法兰端或螺纹接口定制。
是否具磁性? 无磁性,适用于磁场敏感设备。
可否用于核能领域? 是的,HfTa 合金具有优良的中子吸收性能和抗辐射能力。
表面能否镜面抛光? 可提供机械抛光、化学抛光或电解抛光,确保高洁净度。
可否焊接或连接? 可进行电子束焊或钎焊,与钽、钨、不锈钢等兼容。
可用于极端腐蚀介质吗? 是的,在酸性和氟化环境下仍具有优良耐蚀性。
是否附带检测报告? 每批产品附带成分分析、密度检测及显微结构报告。
交付时间? 常规尺寸 3–4 周内发货,特殊定制需评估工期。

包装与交付

每根铪钽合金管出厂前均经过超声波探伤与纯度检测。产品采用真空密封、防震泡沫及防潮木箱包装,确保长途运输安全与表面完好。可提供RoHS、REACH及材质证明文件。

结论

铪钽合金管(HfTa Tube)结合了钽的高熔点与铪的抗氧化能力,是应对极端高温与腐蚀环境的理想材料。
如需了解更多技术参数或报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.